光刻機(jī)霸主ASML在這個(gè)領(lǐng)域僅排第二
2021-08-17 13:20:54 EETOP半導(dǎo)體市場(chǎng)趨勢(shì)研究公司Yole Développement最近給出了一份光刻機(jī)行業(yè)調(diào)查報(bào)告，指出了在這一領(lǐng)域日本公司繼續(xù)保持優(yōu)勢(shì)地位。
報(bào)告指出，2020年該行業(yè)的光刻設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為10億美元，其中30%為CMOS圖像傳感器。87%的More-than-Moore光刻設(shè)備為投影式，傳統(tǒng)的掩模匹配設(shè)備為12%。
佳能在該領(lǐng)域的光刻設(shè)備份額位居榜首，占比34%，而位居第二的ASML則以21%的份額擴(kuò)大實(shí)力。此外，先進(jìn)封裝光刻設(shè)備市場(chǎng)是由SMEE推動(dòng)的，它主要依靠中國(guó)市場(chǎng)，而德國(guó)的SÜSS MicroTec公司已經(jīng)在掩模對(duì)準(zhǔn)器方面建立了地位。
佳能在曝光設(shè)備市場(chǎng)上占有最大的份額，為34%，但ASML正在取得進(jìn)展，份額為21%。先進(jìn)的包裝光刻工具市場(chǎng)是由SMEE推動(dòng)的，它主要依靠中國(guó)市場(chǎng)，而德國(guó)的SÜSS MicroTec公司已經(jīng)在掩模對(duì)準(zhǔn)器方面建立了地位。
半導(dǎo)體光刻設(shè)備供應(yīng)商的地理分布
2020年，功率器件的光刻設(shè)備市場(chǎng)將價(jià)值1.98億美元，佳能以39%的份額領(lǐng)先，ASML第二，占28%，尼康第三，占11%，USHIO第四，占9%。
2020年用于功率器件的光刻設(shè)備的市場(chǎng)份額
面向More-than-Moore的光刻設(shè)備
另外，從面向More-than-Moore的光刻設(shè)備的分辨率和價(jià)格來(lái)看，依次為，掩膜對(duì)準(zhǔn)器（接近和接觸）、全晶圓投影和步進(jìn)器，價(jià)格有逐漸升高的趨勢(shì)。
面向More-than-Moore的光刻設(shè)備分辨率與價(jià)格的相關(guān)性
摩爾定律(Moore's Law)是半導(dǎo)體行業(yè)的核心。按照摩爾定律，晶體管的尺寸隨著節(jié)點(diǎn)（Node）而縮小。此外，把各種小型、高速的晶體管集成到芯片上這一焦點(diǎn)問(wèn)題以及人們無(wú)限的“欲望”推動(dòng)著摩爾定律發(fā)展到今天。
與旨在通過(guò)使此類(lèi)晶體管小型化來(lái)提高性能的“More Moore”不同，“More than Moore”中的元件使數(shù)字電子（Digital Electronics）直面模擬世界、代表著科技領(lǐng)域新功能的多樣化，隨著5G、IoT、無(wú)人駕駛、神經(jīng)傳感（Neural Sensor）等各種各樣的新應(yīng)用（Application）的登場(chǎng)，出現(xiàn)了前所未有的變化。
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