ASML 發布Q2財報：EUV光刻機產能大增
2019-07-18 14:24:44 ASML在Q2季度中，ASML公司獲得了10臺EUV光刻機訂單，而且這些訂單不只是用于邏輯半導體工藝，還首次用于存儲芯片——在此之前，三星表示將在未來的內存芯片生產中使用EUV光刻機，ASML的存儲芯片訂單應該是來自三星了。
對于EUV光刻機，目前最主要的問題還是產能不足，ASML現在出售的光刻機型號是NXE:3400B，每小時晶圓產能是150到155wph，不過Q2季度中ASML已經升級到了NXE:3400C型號，產能提升到了170wph，已經有客戶做到了每天生產2000片晶圓的水平了。
根據ASML的路線圖，未來EUV光刻機的產品還會再有一次提升，每小時晶圓產能最終將達到185wph，不過要等到2021到2022年了。
再往后的話，EUV光刻機就要進入下一代了，提升光刻分辨率要靠新的物鏡系統，ASML前幾年就投資了蔡司光學20億美元，雙方將共同研發NA=0.55的High NA（高數值孔徑）透鏡，可以進一步提升光刻機的分辨率。
根據ASML的計劃，High NA（高數值孔徑）透鏡的新一代EUV光刻機與在3nm節點引入，時間點是2023年到2025年，距離現在還早呢。
