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而早在10 月7 日，臺積電搶在法說會前所發(fā)布的一則新聞稿，已悄悄凸顯出當前半導體大廠EUV（極紫外光刻）軍備競賽的熱度。新聞稿中宣布，導入EUV 光刻機技術(shù)的7 nm增強版（N7+）制程，已于第2 季開始量產(chǎn)。臺積電宣稱，7 nm制程量產(chǎn)已超過1 年的情況下，N7+良率與7 nm已相當接近。臺積電此舉被外界解讀為，是要向搶先量產(chǎn)EUV 但良率似乎不如預期的三星「示威」。
 

在法說會上宣布新增的40 億美元資本支出，就包含采購多臺單價逾1 億美元的EUV 光刻機設備。臺積電企業(yè)訊息處資深處長孫又文向《財訊》證實，「除了7 nm之外，所有先進節(jié)點如6 nm、5nm等，都將采用EUV 作為制程的一部分。但浸潤式光刻機仍然是未來所有先進制程節(jié)點的重要工具。」盡管臺積電在7nm以下的更先進納米制程中，EUV 與浸潤式光刻機技術(shù)將并重，但未來勢必對于EUV 機臺采購需求看漲。
 

波長新里程 突破摩爾定律
 

巧合的是，就在10 月15 日，全球半導體光刻設備龍頭ASML于歐洲與美國那斯達克掛牌的股票，股價分別以243.2 歐元與267.54美元，雙雙創(chuàng)下歷史新高紀錄，今年以來的漲幅也分別高達逾76% 和71%。
 

為何這個來自荷蘭的半導體設備大廠股價會漲翻天？答案就是：由ASML獨家提供的EUV 光刻機技術(shù)，這正是臺積電為持續(xù)維持技術(shù)領(lǐng)先，大力加碼投資的新設備。
 

過去20 年，全球半導體廠商都仰賴當時最先進的浸潤式光刻機機臺，采用193 nm波長的光刻出電路圖案；然而，隨著芯片微縮愈來愈精細，浸潤式光刻機技術(shù)已無法應付，導致摩爾定律恐難以再延續(xù)。因此臺積電、英特爾、三星等半導體大廠都引頸期盼著，ASML展開研發(fā)的波長僅有13.5 nm的EUV 光刻機機臺，可以突破浸潤式光刻機機臺在半導體制程的技術(shù)瓶頸。
 

然而，EUV 光刻機機臺的研發(fā)難度更高，研發(fā)費用也持續(xù)升高，讓ASML愈來愈吃不消，原本應該在2005 年就該量產(chǎn)，進度卻一再延宕。為加快EUV 研發(fā)進度，2012 年，英特爾、臺積電、三星展開一項創(chuàng)舉—向他們的設備供應商ASML投入了大量資金。
 

當時，3 大巨頭總共投資高達38.5 億歐元，取得約23% 股份，其中英特爾擁有15%、三星取得3%、臺積電則有約5% 的股份。英特爾還額外投資ASML的后續(xù)研發(fā)計劃33 億美元；三星也為研發(fā)計劃投入了2.76億歐元。
 

經(jīng)過漫長研發(fā)，如今ASML是全球唯一可量產(chǎn)EUV 光刻機設備的大廠，無論三星、臺積電、英特爾、中芯國際等半導體大廠，全都要靠ASML生產(chǎn)的EUV 光刻機設備，才能在先進納米制程中導入EUV 光刻機技術(shù)。
 

隨著三星、臺積電的EUV 制程相繼成功投產(chǎn)，英特爾也在加速EUV 制程進展，未來還有更多中國半導體大廠也將在EUV 制程摩拳擦掌，一場世界級的EUV 軍備競賽已如火如荼開打，角色如同「軍火商」的ASML自然是最大贏家。
 

果然，就在10 月16 日，艾司摩爾的第3 季法說會上，總裁暨執(zhí)行長PeterWennink揭露令外界為之一亮的消息，「我們在第3 季完成7臺EUV 出貨，其中3 臺是NXE:3400C（產(chǎn)能更大的最新型號）。同時接到來自邏輯與存儲器客戶的23 臺EUV 新訂單，不僅創(chuàng)下單季最高訂單金額紀錄，達51.11億歐元，也證實邏輯和存儲芯片客戶均積極將EUV 光刻機技術(shù)導入芯片量產(chǎn)。總結(jié)來說，ASML對于2019 年的整體營收目標維持不變，今年對于ASML來說仍是成長的1 年。」
 

訂單紛至 第4 季毛利驚人
 

展望第4 季，Peter Wennink仍深具信心地表示，預計第4 季銷售凈額將達約39 億歐元，這將創(chuàng)下歷史新高。此外，第4 季毛利率將高達48%~49% 之間，大大高于第3 季度的43.7%。利潤預期將會提高的主因來自于EUV 光刻機最新型號機臺NXE:3400C，具備更高的ASP（平均銷售價格）。
 

臺積電表示：「鑒于明年5G 部署的前景更加樂觀，在過去的數(shù)個月中，對7 nm與5 nm的需求已顯著增加，」因此，臺積電決定將2019 年全年的資本支出增加40億美元，以滿足不斷增長的需求。「在新增的40 億美元資本支出中，約15 億美元用于7 nm產(chǎn)能，25 億美元用于5 nm產(chǎn)能。」
 

10 月16 日，摩根大通出具一份報告，給予ASML的評價是優(yōu)于大盤，并訂定年底前目標價為240 歐元，此一目標價格是由于預估2025 年每股盈余將達18歐元，本益比13 倍，「我們提高了倍數(shù)，以反映出EUV 在市場滲透率上有更好的能見度。」若觀察近期艾司摩爾的股價表現(xiàn)，可發(fā)現(xiàn)此一論點也頗獲市場認同。
 

若以平均每兩年推出一個先進納米制程估算，以目前可預知的7 nm、6 nm、5 nm、3 nm、2 nm制程，憑借著EUV 光刻機機臺，未來ASML至少有10年的好光景。特別是，隨著半導體大廠軍備競賽打得更加激烈，ASML身為全球獨家EUV 設備供應商，也將更展現(xiàn)出贏者全拿的氣勢。
 

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