美光搶先支持佳能納米壓印，威脅ASML光刻機(jī)市場(chǎng)
2024-03-06 11:19:56 EETOP外媒報(bào)道，美光日前舉辦演講，介紹納米半導(dǎo)體壓印用于DRAM生產(chǎn)的細(xì)節(jié)，DRAM制程和沉浸式曝光分辨率，也就是Chop層數(shù)不斷增加，代表必須增加更多曝光步驟，以取出密集內(nèi)存陣列周圍虛假結(jié)構(gòu)（dummy structures）。
由于光學(xué)系統(tǒng)特性，DRAM層圖案很難用光學(xué)曝光畫圖案，納米半導(dǎo)體打印可更精細(xì)打印圖案，且納米半導(dǎo)體印刷成本是沉浸式曝光20%，是頗佳解決方案。但納米半導(dǎo)體印刷并不能在內(nèi)存生產(chǎn)所有階段取代傳統(tǒng)曝光，兩者并非純粹競(jìng)爭(zhēng)關(guān)系，但至少降低單技術(shù)操作成本。
Canon 2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 納米半導(dǎo)體印刷（NIL）設(shè)備，社長(zhǎng)御手洗富士夫表示，納米半導(dǎo)體壓印問世，為小型半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開辟新途徑。半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)經(jīng)理巖本和德表示，納米半導(dǎo)體印刷是指將有半導(dǎo)體電路圖的光罩壓印至晶圓，只需一個(gè)印記就可在適當(dāng)位置形成復(fù)雜2D或3D電路圖，只需改進(jìn)光罩，甚至能生產(chǎn)2納米芯片。
EETOP 官方微信
創(chuàng)芯大講堂 在線教育
半導(dǎo)體創(chuàng)芯網(wǎng) 快訊
相關(guān)文章
