美光搶先支持佳能納米壓印，威脅ASML光刻機市場
2024-03-06 11:19:56 EETOP外媒報道，美光日前舉辦演講，介紹納米半導體壓印用于DRAM生產的細節，DRAM制程和沉浸式曝光分辨率，也就是Chop層數不斷增加，代表必須增加更多曝光步驟，以取出密集內存陣列周圍虛假結構（dummy structures）。
由于光學系統特性，DRAM層圖案很難用光學曝光畫圖案，納米半導體打印可更精細打印圖案，且納米半導體印刷成本是沉浸式曝光20%，是頗佳解決方案。但納米半導體印刷并不能在內存生產所有階段取代傳統曝光，兩者并非純粹競爭關系，但至少降低單技術操作成本。
Canon 2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 納米半導體印刷（NIL）設備，社長御手洗富士夫表示，納米半導體壓印問世，為小型半導體制造商生產先進芯片開辟新途徑。半導體設備業務經理巖本和德表示，納米半導體印刷是指將有半導體電路圖的光罩壓印至晶圓，只需一個印記就可在適當位置形成復雜2D或3D電路圖，只需改進光罩，甚至能生產2納米芯片。
