顛覆ASML！可生產2納米芯片，佳能重磅推出！中國概念股飄升！
2023-10-16 11:50:51 EETOP
Canon發布新聞稿宣布，已于13日開賣采用「納米壓?。∟ano-imprint Lithography；NIL）」技術、可用低成本制造高性能先進芯片的微影設備「FPA-1200NZ2C」。Canon指出，NIL微影設備可用來生產現行最先進的5nm邏輯芯片，且經由改良，期待可進一步用來生產2nm產品。
產經新聞報道，Canon目標藉由NIL微影設備挑戰在先進芯片制造設備上居于領先地位的荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding NV）。ASML是目前全球唯一一家可生產芯片細微化所不可或缺的「EUV（極紫外光）」微影設備廠商。
彭博社報道，有別于現行的微影設備須藉由曝光、將電路圖案燒在晶圓上，NIL技術則是可像印章一樣、直接將圖案壓印在晶圓上，因可一次性就形成電路，縮短制程時間、更省電。Canon在10年前就和日本光罩廠大日本印刷、鎧俠（當時為東芝）攜手研發NIL技術。日本政府自7月起加強高性能芯片制造設備的出口管制，而關于Canon的NIL設備是否在管制對象內，Canon避談、僅表示會遵照法規規范來執行。
受此消息影響，上周五收盤ASML重挫2.71%，收599.75美元。
值得注意的是，中國股票市場也受到了此消息影響，納米壓印概念股上周五午后走高，匯創達午后開盤拉升漲超11%，美迪凱、晶方科技、利和興、蘇大維格等紛紛大幅拉升。
截止今天上午收盤美迪凱、蘇大維格繼續維持大幅上漲勢頭。
佳能新聞稿如下（自動翻譯）：
2023年10月13日，佳能宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備，該設備執行最重要的半導體制造工藝——電路圖案轉移。
佳能除了現有的光刻系統之外，還通過將采用納米壓印光刻（NIL）技術的半導體制造設備推向市場，佳能正在擴大其半導體制造設備陣容，涵蓋從最先進的半導體設備到最廣泛的用戶需求。
傳統的光刻設備通過將電路圖案投影到涂有抗蝕劑的晶圓上來轉移電路圖案，而新產品則通過將印有電路圖案的掩模壓印在晶圓上的抗蝕劑上，就像印章一樣來實現這一點。由于其電路圖案轉移過程不通過光學機制，因此掩模上的精細電路圖案可以忠實地再現在晶圓上。因此，可以在單個壓印件中形成復雜的二維或三維電路圖案，這可以降低擁有成本(CoO)。
佳能的 NIL 技術可實現最小線寬 14 nm 的圖案化，相當于生產目前最先進的邏輯半導體所需的5 納米節點
此外，隨著掩模技術的進一步改進，NIL有望實現最小線寬為10nm的電路圖案，相當于2nm節點。
新產品采用了新開發的環境控制技術，可抑制設備內細顆粒的污染。
實現了半導體層數增加所必需的高精度對準，減少了微細顆粒造成的缺陷，并可形成精細且復雜的電路，有助于制造尖端半導體器件。
由于新產品不需要用于精細電路的特殊波長光源，因此與目前最先進的邏輯半導體（5 納米節點，15 納米線寬）光刻設備相比，可顯著降低功耗，從而為減少二氧化碳排放量做出貢獻。
新產品的應用范圍很廣，除了邏輯器件和其他半導體器件外，還可用于微觀結構達數十納米的 XR 金屬透鏡。
