比EUV節(jié)省90%的功耗！佳能將交付第一批納米壓印光刻工具
2024-02-01 11:19:29 EETOP據(jù)英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》報(bào)道，本周佳能司表示，首批客戶將于今年或明年收到第一臺(tái) NIL 機(jī)器，不過(guò)這將用于試運(yùn)行 。這些新機(jī)器的工作原理是在晶圓上壓印印記，而不是使用典型的光刻技術(shù)進(jìn)行光學(xué)刻錄，據(jù)稱與行業(yè)巨頭 ASML 的競(jìng)爭(zhēng) EUV 機(jī)器相比，其能耗降低了 90%。
佳能的納米壓印光刻技術(shù)已經(jīng)開(kāi)發(fā)了超過(guò) 15 年，通過(guò)將芯片設(shè)計(jì)直接壓印到硅晶圓上，提供了一種新的芯片制造方法。這種完全不同的方法與依賴激光和光刻膠的傳統(tǒng) DUV 和 EUV 光刻技術(shù)形成鮮明對(duì)比，并且有望更便宜、更節(jié)能。事實(shí)上，佳能甚至表示，其 NIL 工具的能耗比 ASML 的 EUV 工具低 90%。此外，NIL 目前可用于在 5 納米級(jí)工藝技術(shù)上構(gòu)建芯片，最終可能會(huì)發(fā)展到 2 納米級(jí)節(jié)點(diǎn)，該公司表示。
佳能表示，其納米壓印光刻機(jī)的戰(zhàn)略不是取代晶圓廠的 DUV 和 EUV 工具，而是與現(xiàn)有工具共存。據(jù)《金融時(shí)報(bào)》報(bào)道，如果不是邏輯芯片，NIL 可以用來(lái)制造 3D NAND 。
佳能推出納米壓印技術(shù)正值光刻系統(tǒng)需求高漲之際。此外，NIL可能提供更便宜的工具和更便宜的芯片制造。因此，佳能進(jìn)入尖端制造工具市場(chǎng)可能會(huì)打破當(dāng)前的現(xiàn)狀，因?yàn)?a href="http://www.xebio.com.cn/semi" target="_blank" class="keylink">ASML是無(wú)可爭(zhēng)議的光刻領(lǐng)導(dǎo)者。
然而，由于NIL與DUV和EUV都不兼容，將其插入當(dāng)前設(shè)計(jì)流程非常復(fù)雜。同時(shí)，目前還不清楚是否可能開(kāi)發(fā)一種僅依賴納米壓印技術(shù)的制造工藝。因此，佳能的納米壓印技術(shù)的成功并不能得到保證，因?yàn)樗媾R著行業(yè)分析師的懷疑。研究公司 Radio Free Mobile 的負(fù)責(zé)人理查德·溫莎 (Richard Windsor) 在接受英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》采訪時(shí)表示：“如果納米壓印技術(shù)是一項(xiàng)優(yōu)越的技術(shù)，我認(rèn)為它現(xiàn)在就已經(jīng)投入使用并大量投入市場(chǎng)。”
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