日媒：中國欲聯手日企開發光刻機
2020-10-14 09:57:32
EETOP整理
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隨著美國加強對中國半導體企業的制裁與管制，使得過去中國設定到的未來幾年內芯片自給率要達到7 成的目標存在變數。對此，《日本經濟新聞》報導指出，面對美國的制裁，從長遠來看，這將反而可能會助長中國半導體產業的自立與發展。尤其是為了突破美國對中國的高科技設備封鎖，中國方面將聯合日本廠商尼康（Nikon）及佳能（Canon）一起研發除EUV 之外的其他類型光刻機設備。
報導指出，美國近來陸續以禁售令來制裁中國華為與中芯國際等相關企業。就有供應鏈廠商指出，盡管有美國政府的出口限制，但中國半導體企業目前仍在設法迂回避開美國的禁令規定，尋找生路。而其中，與日本企業傳出將共同研發光刻機設備就是一例。目前，雖然全世界只有荷蘭的艾司摩爾(ASML) 可以制造EUV 光刻機。但是，因為其中大部分基礎技術的IP產權都在美國手上，因此荷蘭政府之前就曾經宣布不允許ASML 向中國出口EUV 光刻機。
只是，除了EUV 光刻機以外，其他的光刻設備包括日本的Nikon 和Canon 也可以生產。因此，就有知情的業界人士指出，目前中國正看準日本企業的研發能力，計劃由中國企業向兩家日本公司提供資金，共同進行除EUV 以外的新型光刻設備開發。而為了因應未來的需求，中國政府也開始著手開發半導體制造相關設備和設計軟件。
報導指出，目前中國政府的想法，是中國有1,000 多家新興的半導體相關公司，如果透過自行研發光刻機與相關設備、軟件，而使得中國華為和中芯國際從這些公司購買半導體芯片生產所需的制造設備與設計軟件等，實際上就可以有機會進一步提振整個中國半導體產業，這也是中國政府目前極力要發展半導體相關設備的主因。
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