單臺近30億元！ASML交貨首套High-NA EUV 光刻機
2023-12-23 12:34:37 EETOP
ASML 發言人表示，已出貨第一套High-NA EUV 光刻機給英特爾。如9月宣布，機器從荷蘭ASML 總部運往英特爾俄勒岡州晶圓廠安裝。High-NA EUV 光刻機體積非常大，需13 個大貨柜才能裝完。每套High-NA EUV 光刻機成本約3 億至4 億美元（約28億元人民幣）。
英特爾表示，會使用最新設備學習生產Intel 18A 制程，2025 年量產。配備0.55 NA 透鏡的高High-NA EUV 光刻機達8 納米解析度，比0.33 NA 透鏡、13 納米解析度標準EUV 光刻機顯著提升。High-NA 將在2 納米及更先進制程發揮重要作用。
因High-NA EUV 光刻機與標準EUV 光刻機差異不小，需大量修正基礎設施，故領先對手幾季部署對英特爾是很大優勢。英特爾有充足時間調整Intel18A制程，一方面調整High-NA EUV 光刻機基礎設施。
