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臺積電改變想法? ASML證實年底交貨 High-NA EUV 光刻機

2024-06-07 11:48:08 EETOP
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半導體光刻機大廠ASML已交貨英特爾 (Intel) 首臺商用 High-NA EUV 光刻機并安裝完畢,英特爾院士 Mark Phillips 確認設備年底啟用。相較英特爾臺積電似乎不急著加入競賽,臺積電已于荷蘭技術論壇表明不立即購入這款昂貴半導體制造設備。

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臺積電表示幾年內都不需要高階EUV,且價格也非常高昂。分析師預測,臺積電可能要到2030年甚至更晚才會購入High-NA EUV

不過才過幾個月,臺積電似乎改變想法。外媒報道,ASML發言人Monique Mols說年底會交貨每套價值3.8億美元的High-NA EUVASMLCFO Roger Dassen也證實,兩大客戶臺積電英特爾年底會收到High-NAEUV。受此消息影響,ASML股價開盤股價大漲。

先進光刻技術是尖端芯片制造不可或缺的關鍵,且High-NA EUV有望降低66%芯片大小。ASML官方透露,High-NA EUV比標準EUV體積大30%,需三架以上波音747貨機運載。

圖片

臺積電已宣布,2納米制程發展順利,并2025下半年推出N3X、N2制程,2026下半年量產N2P和A16先進制程。與已量產3納米不同,將量產的2納米為Gate-all-around FETs(GAAFET)晶體管,較3納米性能提升10%~15%,功耗降低25%~30%。

臺積電董事長魏哲家缺席年度技術論壇臺北場,改拜訪荷蘭ASML總部,外界解讀為臺積電對High-NA EUV的態度轉變,因接下來先進制程不可或缺性與競爭對手英特爾已購入設備,故臺積電下一步動作對維持市場優勢都是關鍵,值得后續觀察。

來源:technews(臺)

關鍵詞: 臺積電 ASML High-NAEUV

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