光刻機巨頭ASML亮相進博會，展示7nm光刻機，表示對中國一視同仁！
2020-11-06 13:04:49 EETOPASML也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。
作為全球芯片光刻技術的領導者，本次ASML(阿斯麥)以“光刻未來，攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術裝備展區。時間是2020年11月5日至10日，位于技術裝備展區3C6-002。
光刻機（Mask Aligner) 又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
另據澎湃新聞報道，在第三屆中國國際進口博覽會現場，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）全球副總裁、中國區總裁沈波表示，該公司對向中國出口集成電路光刻機持開放態度，對全球客戶均一視同仁，在法律法規框架下，都將全力支持。沈波透露，2020年第二、第三季度，公司發往中國大陸地區的光刻機臺數超過了全球總臺數的20%。
