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21名芯片工程師被逮捕!

2024-12-04 12:09:23 EETOP
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韓國警方3日表示,一名三星電子前工程師因涉嫌挖角三星的半導體核心技術(shù)人才,加上向中國公司泄漏20納米DRAM內(nèi)存芯片技術(shù),遭逮捕并移送檢方。

韓聯(lián)社報道,首爾警察廳產(chǎn)業(yè)技術(shù)安全偵查隊今天指出,64歲三星電子前工程師因涉嫌違反"職業(yè)安定法"被捕,并移送首爾中央地方檢察廳。

據(jù)報道,該男曾以顧問身分參與創(chuàng)立成都高真公司,同時期還在韓國成立獵頭公司,以至少2至3倍的優(yōu)渥薪資挖角三星電子核心技術(shù)人才,協(xié)助在中國"復刻"動態(tài)隨機存取內(nèi)存(DRAM)工廠,并于2022年4月成功生產(chǎn)半導體晶圓。

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這座DRAM工廠從完工到投產(chǎn)僅費時1年3個月。 一般來說,晶圓從測試到量產(chǎn)通常需要4至5年。

韓國警方提到,外流技術(shù)的經(jīng)濟價值高達4.3萬億韓元(約30.4億美元),若考慮相關(guān)經(jīng)濟效益,實際損失規(guī)模更加龐大。

除了這名前工程師,還有以相同手法挖角韓國半導體人才的2位獵頭公司代表及法人被移送法辦。據(jù)悉獵頭公司已挖角逾30名技術(shù)人員。

盡管韓國國家關(guān)鍵技術(shù)外流,警方只能根據(jù)刑責較輕的「職業(yè)安定法」、而非「產(chǎn)業(yè)技術(shù)保護法」來逮捕涉案嫌犯。

警方解釋,根據(jù)現(xiàn)行法規(guī),以「挖角」方式外流技術(shù)的行為不屬于「產(chǎn)業(yè)技術(shù)保護法」規(guī)定的懲處范圍,因此有必要針對相關(guān)法律進行修法,以嚴懲商業(yè)間諜。

報道指,包括前三星電子工程師在內(nèi),此次技術(shù)外泄案共有21人遭移送法辦。

成都高真創(chuàng)辦人、三星電子前常務(wù)兼SK海力士(SK Hynix)前副社長崔珍奭等人則已被捕,他們涉嫌違反「產(chǎn)業(yè)技術(shù)保護法」及「防止不正當競爭及商業(yè)秘密保護法」。


關(guān)鍵詞: 崔珍奭

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