英特爾分享史上最大開箱視頻！高調炫耀下一代EUV光刻機 EETOP 2024-03-05 12:07 北京
2024-03-05 12:21:16 EETOP去年年底，ASML開始向英特爾交付其下一代EUV光刻機——首款高數值孔徑極紫外（EUV）光刻系統。上周末，這家處理器巨頭發布了一段視頻，介紹了該工具在俄勒岡州希爾斯伯勒附近的晶圓廠中的安裝過程。目前該機器將主要用于研究和開發目的。
ASML的Twinscan EXE：5000 High-NA EUV機器確實非常龐大。總共需要 250 個板條箱來運輸這臺重達 330,000 磅左右的機器。
一架貨機將視頻中的集裝箱從荷蘭運送到俄勒岡州波特蘭，然后一輛卡車運送了該工具的關鍵部件之一。正如您在下面的視頻中看到的，該裝置已經安裝在晶圓廠，但 250 名 ASML 和英特爾工程師需要大約六個月的時間才能完全安裝該機器。
但是，即使 Twinscan EXE：5000 High-NA EUV 機器完全組裝完畢，ASML 和 Intel 工程師仍然需要對其進行校準。這將需要數周甚至數月的時間。首先，兩家公司將不得不“點亮”設備，即光子撞擊晶圓上的光刻膠，ASML工程師最近在荷蘭Veldhofen使用他們的High-NA EUV工具實現了這一點。
ASML的高數值孔徑EUV Twinscan EXE工具可以以8nm分辨率進行刻錄，顯著增強了目前使用的低數值孔徑EUV掃描儀的性能，這些掃描儀的單次曝光限制為13nm分辨率。這一進步使得制造的晶體管比現在小約 1.7 倍，晶體管密度幾乎增加了三倍。實現 8nm 關鍵尺寸對于使用亞 3nm 工藝技術生產芯片至關重要，該行業希望在 2025 年至 2026 年間實現這一目標。
英特爾將主要使用其 Twinscan EXE：5000 光刻工具來學習如何使用 High-NA EUV 技術。該公司計劃通過其英特爾 18A 工藝技術（盡管不用于大批量生產）測試高數值孔徑光刻技術的使用，并最終通過其英特爾 14A 制造工藝將其用于大批量制造。
