當前光刻機市場被荷蘭ASML牢牢把持，占據了60%的份額。而尼康排名第三，差距顯著。據日經中文網報道，為迎頭趕上，尼康計劃在2024年推出新產品，利用成熟技術，避免違反對華出口管制，并尋求在中國市場扭轉頹勢。在預測2023財年合并凈利潤將同比下降22%至350億日元后，尼康顯示出對半導體設備和相機影像業務的擔憂。盡管高檔微單相機銷售強勁，但精機業務的低迷影響明顯。盡管尼康曾在1990年代領導市場，但在極紫外設備開發方面輸給了ASML。公司經營資源分散，1990年代主要向美國英特爾銷售尖端設備，但在拓展其他客戶方面進展緩慢。光刻機作為半導體制造的核心，尼康在全球市場份額僅為7%，遠遠落后于ASML（60%）和佳能（31%）。為了應對ASML在極紫外（EUV）設備領域的競爭失利， 作為打開局面的對策，尼康將于2024年夏季時隔24年推出采用成熟技術的光刻機新產品。該款設備使用了1990年代初實用化、被稱為“i線”的老一代光源技術。這一舉措旨在利用成熟技術，減少成本，可能使產品價格比競爭對手佳能便宜2～3成左右。同時尼康計劃通過推出采用老一代技術的設備，規避管制，積極開拓中國市場。這也與實用化已過去四分之一個世紀的“i線”等老一代設備不受出口管制的趨勢相符。精機業務本部長濱谷正人表示，正在積極與經濟產業省討論，認為產品不在出口管制范圍內，將在中國積極銷售。在對華出口管制的背景下，尼康能否通過開拓中國市場扭轉局勢，將成為其東山再起的關鍵。尼康計劃明年夏季上市老一代技術的光刻機：NSR-2205i據之前的相關報道，尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步進技術在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶對這些在芯片制造中發揮重要作用的光刻系統的需求。從官方公布的參數來看，NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波長），分辨率≤350nm，NA為 0.45，最大曝光場22 mm x 22 mm。
