尼康研發(fā)3D光刻機，計劃銷量翻倍，美國是否會對中國出口限制是關(guān)鍵！
2022-08-27 09:56:40 EETOP
半導(dǎo)體光刻機用于在作為基板的晶圓上形成電路的工序，1臺光刻機的價格高達(dá)數(shù)億元。尼康2023年將推出光源使用化合物氟化氬（ArF）、還支持3D的「ArF液浸光刻機」的新產(chǎn)品。在截至2021財年（截至2022年3月）的3年內(nèi)，使用ArF的半導(dǎo)體光刻機年均銷售16臺（包括二手機型）。
作為結(jié)構(gòu)改革的一環(huán)，尼康把買方鎖定英特爾，面向英特爾的出貨量占到8成（按照銷售臺數(shù)計算）。尼康強調(diào)光刻機可以支持提高半導(dǎo)體性能的3D、以及測量補償功能等優(yōu)點。還將推進(jìn)開發(fā)、制造及擴充營業(yè)人員等，增加日本、中國大陸、中國臺灣廠商等客戶。將把英特爾以外的客戶占比由現(xiàn)在的2成左右提高到5成以上。
面向車載半導(dǎo)體等成熟領(lǐng)域，尼康也將增加設(shè)備銷售。在半導(dǎo)體及液晶制造裝置業(yè)務(wù)方面，將把2025財年（截至2026年3月）的銷售額比2021財年（截至2022年3月）增長18%，達(dá)到2500億日元以上。
尼康的優(yōu)勢是使用ArF的光刻機。不過，和最尖端裝置相比，這屬于前一代產(chǎn)品。尼康和佳能曾在半導(dǎo)體光刻機領(lǐng)域領(lǐng)先，但現(xiàn)在落后于迅速提高了技術(shù)實力的荷蘭ASML。尤其，電路極其微細(xì)、支持最尖端半導(dǎo)體制造的「EUV（極紫外線）光刻機」被ASML獨家壟斷。
臺積電（TSMC）等在熊本縣建設(shè)半導(dǎo)體工廠等，目前半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)對非尖端領(lǐng)域半導(dǎo)體的投資保持堅挺。尼康的光刻機也以最尖端產(chǎn)品的1~2代之前的機型為主，在堅挺的半導(dǎo)體需求推動下，計劃強調(diào)支持3D的附加價值，擴大銷售額。
據(jù)半導(dǎo)體行業(yè)國際團體SEMI預(yù)測，半導(dǎo)體制造裝置的全球銷售額到2023年將連續(xù)4年刷新歷史最高紀(jì)錄。不過，半導(dǎo)體市場不斷減速，尼康計劃列為銷售對象之一的中國大陸受到美國強化半導(dǎo)體制造設(shè)備出口限制的影響，尼康能否如愿擴大銷售仍不確定。
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