韓媒：不僅EUV，美國恐進一步限制DUV光刻機出口中國
2021-04-14 12:31:55 未知針對全球性的芯片缺貨問題，美國拜登政府才在14 日邀集包括美國歐半導體設備大廠，汽車制造廠商、中國臺灣臺積電與韓國三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議，以討論解決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。而在此同時，韓國媒體報導，面對中國積極發展半導體產業的態度，美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光（EUV）光刻機的出口到中國，恐怕連浸潤式ArF 深紫外光（DUV）曝光設備都將被列入禁止出口中國品項?！ ?img src="http://www.xebio.com.cn/uploadfile/2021/0414/20210414123239989.jpg" style="width: 650px; height: 434px;" />
韓國媒體《BusinessKorea》最新報導指出，美國拜登政府為限制中國在半導體產業中的地位，日前由美國國家人工智能安全委員會提出了一項政策，希望禁止向中國出口包括浸潤式ArF 深紫外光（DUV）的光刻機在內的半導體制造設備。而如果一旦這項計劃付諸施行，則目前在中國大陸設有大型晶圓廠的三星與SK 海力士等韓國存儲器大廠擔心，未來將可能受到進一步的沖擊。
報道指出，之前歐盟委員會曾經表示，為了限制中國在半導體產業的地位，美國政府必須與荷蘭及日本政府合作，限制相關半導體設備出口到中國。因為前一任的美國特朗普政府已經阻止了荷蘭商光刻機大廠艾司摩爾（ASML）出口EUV 光刻機到中國的計劃。所以，一旦也限制浸潤式ArF 深紫外光光刻機出口到中國，則顯示美國禁止更多的半導體設備出口到中國。
