ASML：DUV光刻機無需美國許可！最新一代EUV光刻機明年發布：加工精度提升至1.1nm
2020-10-15 15:06:26
EETOP整理
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10月14日，ASML公布第三季度財報，凈銷售額高達39.58億歐元，同比增長32.6%，毛利率為47.5％。
據該公司首席執行官Peter Wennink 介紹，ASML在第三季度一共交付了 10 臺 EUV 系統，并在本季度實現了 14 臺系統的銷售收入。而在第三季度的新增訂單達到 29 億歐元，其中 5.95 億歐元來自 4 臺 EUV 設備。從這個說明我們可以看到，ASML EUV光刻機的售價約為1.48億歐元，折合人民幣11.74億元。
ASML還披露他們全新的極紫外光刻機將在明年年中開始出貨的，型號為TWINSCAN NXE:3600D。
在財報中，阿斯麥表示他們已經敲定了TWINSCAN NXE:3600D的規格，具體來說，30mJ/c㎡ 的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1nm。
值得注意的是，在2019年的年報中，阿斯麥就曾披露他們在研發新一代的極紫外光刻機，但當時他們是計劃在2022年年初開始出貨，2024或者2025年大規模生產。三季度財報中披露在明年年中開始出貨，也就意味著出貨時間較原計劃提前了半年。
極紫外光刻機是7nm和5nm芯片制程工藝所必不可少的設備，目前全球只有阿斯麥能供應。臺積電、三星這兩大芯片代工商的制程工藝都已提升到了7nm和5nm，他們所需要的極紫外光刻機也全部仰仗于阿斯麥，全新的TWINSCAN NXE:3600D的首臺，預計也會交由這兩家代工商中的一家。
3600D定于2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時間等待，價格應該不會低于現款老型號的1.2億美元。
目前，ASML已經投產的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/c㎡ ，每小時可曝光125片晶圓。
另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機
TWINSCAN NXT:2050i已經在三季度結束驗證，四季度早期開始正式出貨。
據悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺光刻機收入，出貨了10臺EUV光刻機。
ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業務情況。
Roger Dassen指出，在中國業務方面，去年中國本土客戶為ASML創造了約8億歐元的銷售額，今年將會更多，預計超過10億歐元。
關于美國有可能對中芯國際采取限制措施，Roger Dassen表示，ASML今年客戶以邏輯工藝領域為主，中芯國際則是ASML的主要邏輯工藝領域客戶。“我們不會對特定的客戶情況進行推測或評論，但總的來說，我們會在法律和法規要求的范圍內盡最大的能力繼續為客戶提供服務，”Roger Dassen如是說。
Roger Dassen進一步指出，ASML了解美國當局目前的規章制度及其解釋，當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關，但如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義（對于特定的中國客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統，且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運往此類客戶的零件或系統，ASML則需要為此申請出口許可證。
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