日本開發出廉價可靠的EUV光源
2020-04-29 12:53:32 allaboutcircuits EETOP
東京工業大學的技術團隊已經實現了這一目標，他們用聚電解質制成的聚合物電解質“肥皂泡”作為模板，用激光照射，這種聚合物電解質非常穩定，適合大規模生產。
一旦球體被輻射，研究小組就能夠證實發出了與金屬錫相同的13.5nm的極紫外(EUV)射線。研究小組認為，他們的新技術可以為先進半導體等電子產品的各種應用鋪平道路，作為一種可靠的EUV光源產生手段。
東京工業大學的團隊與都柏林大學學院的同事合作，致力于尋找可用于產生EUV光的激光靶，同時保持高效、可擴展和低成本。他們的錫涂層微膠囊 "氣泡 "技術是一種可高度控制的低密度結構。它由聚合物電解質組成，然后涂上錫納米顆粒。
為了對該氣泡進行測試，研究小組用釹-YAG激光器對其進行照射。結果是產生了13.5納米范圍內的EUV光，研究小組還發現，該結構與制造半導體的傳統EUV光源兼容。
"克服了液態錫動力學的限制，在產生EUV光方面非常有利。"Keiji Nagai教授說。"定義良好的低密度錫靶可以支持多種材料，包括其形狀、孔隙大小和密度。"
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