揭秘日本光刻膠專利：占有率高 利潤高 暫無替代品
2020-02-18 08:48:39 快科技
光刻膠技術按大分類分為光刻膠構成要素技術、光刻膠制造技術、光刻膠用途技術。光刻膠構成要素技術由原材料技術和層構成技術、相移等的圖案構成技術構成。光刻膠制造技術分為胚料工藝流程相關的制造技術、光刻膠工藝流程相關的制造技術。光刻膠用途技術有保管技術、搬運技術、定位和固定技術、半導體以及液晶面板等方面的應用領域的相應技術。此外，與曝光機相關的技術，包括光曝光（光光刻膠）、EUV曝光（EUV光刻膠）、X光曝光（X光光刻膠）、粒子線曝光（粒子線（電子束線）光刻膠）等相應技術。
下面，再針對日本JSR、東京應化、日本信越和富士電子材料四大日本光刻膠企業，我們抽取出幾個重要分類，來看看這幾家日本光刻膠企業歷來在光刻膠方面的專利申請情況。
日本四大光刻膠企業專利申請統計表
（a）用途分類
（b）課題分類
（c）解決手段分類
從上述數據可以看出，這四大日本光刻膠企業在光刻膠的各個細分領域都有相當數量的光刻膠專利技術儲備，尤其是日本信越和富士電子材料，在光刻膠的各個技術領域都布局了大量的專利技術。
如今，在以存儲器為中心的半導體市場銷售低迷的情況下，在日本本土半導體光刻膠領域則呈現出另一番欣欣向榮的市場局面。日本擁有世界上最完整的半導體產業鏈，而且在上游的半導體設備和材料方面，日本廠商也有著極高的市占率，其行業集中度高，龍頭企業市場份額高，行業利潤水平高，且暫無潛在替代產品。日本作為光刻膠大國，占據了全球極大比例的市場份額，其技術壁壘之堅實，也依然非他國在短期內可以效仿和攻破。
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關鍵詞： 光刻膠
