ASML 正在開發hyper-NA EUV光刻機
2024-05-22 12:17:52 EETOPVan den Brink進一步強調了Hyper-NA EUV工具的重要性，指出它能夠簡化復雜的雙重圖案工藝，降低生產難度。他解釋說，這種高分辨率工具的可用性對于半導體制造行業至關重要。
值得注意的是，高數值孔徑EUV（high-NA）光刻技術目前正處于起步階段。ASML自去年12月開始出貨高數值孔徑工具，目前僅英特爾一家采用，而臺積電則表示短期內不會采用。為了推動該技術的研發和應用，ASML將在幾周內正式在費爾德霍芬開設高數值孔徑實驗室，該實驗室將與Imec共同運營，為芯片制造商提供該工具的早期使用權。
事實上，該實驗室的系統已經投入使用，并成功打印了有史以來第一個10納米線陣圖案。據Van den Brink的最新更新，該系統已經能夠產生8nm線陣圖案，接近該工具的最大分辨率。這一成果進一步證明了ASML在EUV光刻技術領域的領先地位和持續創新的能力。
