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三星3納米良率大幅拉高!

2024-03-23 11:06:58 EETOP
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市場傳出,三星電子(Samsung Electronics Co.)3 納米良率大幅拉高,整體表現有機會追上臺積電

知名爆料人Revegnus 22日透過社交平臺X指出,三星3納米良率一開始雖只有10%~20%,但最近拉升至三倍以上。

圖片

雖然良率依舊低于使用現有「鰭式場效」(Fin Field-Effect Transistor,FinFET)制程的臺積電,但三星對第二代3納米制程期望甚高,據傳看好效能、功耗及面積( Performance、Power、Area,PPA)前景(有謠言暗示可趕上臺積電N3P)。

Revegnus表示,消息人士透露,三星3納米制程的能源效率(power efficiency)、邏輯區域(logic area)都比4納米FinFET改善20%~30%。

韓國媒體TheElec報道,三星共同CEO慶桂顯(Kyung Kye-hyun)20日在年度股東大會預測,今年半導體營收有望重返2022年衰退前水準。

慶桂顯指出,存儲器事業1月轉虧為盈,今年恢復元氣,除了高帶寬存儲器(HBM),開放性高速互連通訊協議CXL(Compute Express Link)、存儲器處理器(Processor In Memory, PIM)也與客戶接洽,結果很快就能出爐。

三星晶圓代工事業總裁崔時榮(Siyoung Choi)同場合表示,雖然英特爾(Intel Corp.)談論1.4納米制程,但三星及臺積電都有制程規劃。他說,客戶要的是穩定供應、產品具競爭力的晶圓代工商,三星4納米良率已成熟。

崔時榮并表示,第二代3納米制程下半年投產,2納米投產時間是明年。


關鍵詞: 三星3納米

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