2納米制程大戰！ASML下代EUV 光刻機年底問世，臺積電、三星紛卡位
2023-09-15 08:24:37 互聯網
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臺積電以不超過4.328億美元額度，取得英特爾旗下IMS事業（奧地利商艾美斯電子束科技）10%股份，預計第四季完成交易，推動EUV（極紫外光）先進曝光技術的創新。 業界持正面看法，而韓媒認為這將加劇2納米制程的競爭狀況。
韓媒Business Korea對于臺積電這次收購感到吃驚，因為IMS是開發EUV設備所需的多光束光罩寫入工具的領導廠商，市占率達98%; 該公司生產的多光束光罩寫入工具能更精確、快速地刻制光罩，有效改變半導體業的游戲規則。
業界人士甚至認為，如果沒有IMS設備，ASML的EUV光刻機恐毫無用處，而臺積電與英特爾合作似乎是期待ASML下一代High-NA EUV微影曝光設備。 隨著曝光設備在7納米以下制程的重要性不斷增加，臺積電打算深化現有的技術合作。
天風國際證券分析師郭明錤則認為，臺積電Arm與IMS這兩筆投資主要目的為提高垂直整合能力，確保從目前3納米的FinFET技術能順利轉換到2納米的GAA技術。 其中，投資IMS則可確保關鍵設備的技術開發與供應能滿足2納米商用化的需求。
英特爾2009年投資IMS，2016年收購剩余股份，今年6月則釋出20%股份給貝恩資本（Bain Capital）。
至于緊追在臺積電身后的三星，曾于2012年以7,000億韓圜收購ASML 3%股份，以合作未來的曝光機開發; 但到2016年，三星以收回投資為由出售一半ASML股份，截至今年第二季末，三星僅保留0.7%股份。
但盡管如此，產業專家認為三星和ASML的合作關系仍相當牢固，據了解，三星正準備確保下一代EUV微影曝光設備High-NA的產量，預計這款設備將于今年晚時推出原型，明年正式供貨。
報導預計，SK 海力士、臺積電和英特爾都將加入下代曝光設備的競爭; 另一方面，2納米制程競爭也不斷升級。 臺積電去年宣布已準備試產2納米產品，以維持領先地位，三星則計劃利用GAAFET技術來彎道超車，隨著英特爾和Raapidus也加入2納米戰局，先進制程競爭將更加激烈。
