荷蘭公布半導體設備管制措施！限制DUV光刻機出口到中國
2023-07-02 08:13:09 technews荷蘭政府6月30日正式公布最新半導體設備管制措施，要求先進芯片制造設備業者，出口DUV（深紫外光）光刻機都必須申請許可，雖然相關管制措施沒有提到中國或ASML（艾司摩爾），但是相當于限制ASML 的DUV 光刻機出口到中國，并預計管制措施將在9 月1 日生效。
荷蘭外貿部長施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）表示，荷蘭政府采取半導體設備管制措施，主要是出于國家安全考慮，受影響的企業現在知道自己的立場是件好事，因為這樣就能及時適應新的規定。
荷蘭政府祭出最新半導體設備管制措施，雖然具體沒有提到中國或ASML，但是因為ASML 是半導體供應鏈關鍵廠商，幾乎壟斷先進芯片制造設備的市場，因此管制措施要求ASML 出口DUV 光刻機到中國都必須事先申請許可，等于限制ASML 三種型號的光刻機出售給中國。
管制措施鎖定的是ASML 三款DUV 光刻機，型號為TWINSCAN NXT：2000i、NXT：2050i 和NXT：2100i，屬于ASML 第二先進的設備，而最先進的極紫外光光刻機（EUV）已在今年3 月限制對中國出口。
管制措施的消息沖擊ASML 股價一度跌逾2%，但是ASML 之前就有發表聲明表示，未來ASML 要出口最先進的DUV 設備時都必須向政府申請許可，而相關措施對2023 年度，甚至更長期的財務展望，并不會有重大的影響。
美國從2022 年10 月開始就以國家安全為由，限制企業將芯片制造設備出口到中國，以防范技術被用來強化中國軍事力量，并推動日本與荷蘭跟進，其中日本針對23 項設備的限制令將在7 月下旬生效，而荷蘭則在今日公布管制措施，等于限制ASML 出口DUV 光刻機到中國。
