荷蘭半導(dǎo)體管制新規(guī)：ASML成熟DUV光刻機(jī)不受影響！
2023-03-09 11:54:20
EETOP
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迫于美國(guó)壓力，荷蘭政府8日證實(shí)，將在夏季前實(shí)施新的出口管制。據(jù)報(bào)道，新的出口管制涉及最先進(jìn)的浸入式深紫外光光刻機(jī)（DUV）設(shè)備，ASML 對(duì)此表示，新管制包括最先進(jìn)的沉積和浸潤(rùn)式光刻機(jī)（immersion lithography）設(shè)備，公司將為最先進(jìn)的浸入式 DUV 系統(tǒng)申請(qǐng)出口許可證。
ASML 也強(qiáng)調(diào)，這項(xiàng)新管制沒(méi)有包含所有的浸入式光刻機(jī)設(shè)備，而是所謂的“最先進(jìn)”工具，但還沒(méi)接收到有關(guān)最先進(jìn)的定義和信息。從公司官網(wǎng)可以看到目前ASML主流的DUV光刻機(jī)有三款設(shè)備：該公司認(rèn)為最先進(jìn)的設(shè)備可能是 TWINSCAN NXT：2000i及隨后推出的浸入式設(shè)備。NXT：1980i DUV光刻機(jī)則不在管制范圍之內(nèi)(NXT：1980i這款設(shè)備也是當(dāng)年武漢曾經(jīng)花費(fèi)了7200萬(wàn)美元購(gòu)買過(guò)的設(shè)備。) 。而如果需要購(gòu)買2000i及更先進(jìn)的設(shè)備則需要申請(qǐng)出口許可證。從ASML官網(wǎng)獲悉，1980i與2000i具有相同的光學(xué)及量產(chǎn)指標(biāo)。都采用了193nm的深紫光源，單次曝光最大分辨率支持到38nm。DUV光刻機(jī)是通過(guò)多次曝光技術(shù)也可突破到10nm工藝之內(nèi)。ASML表示，那些專注于成熟工藝的客戶可以使用不太先進(jìn)的浸入式光刻設(shè)備，并稱公司的長(zhǎng)期方案主要基于全球普世需求和技術(shù)趨勢(shì)。ASML 的 EUV 設(shè)備自 2019年就開(kāi)始受到限制。最后ASML表示，目前荷蘭政府的措施不會(huì)影響2023年財(cái)務(wù)前景，或者對(duì)長(zhǎng)期前景產(chǎn)生重大影響。
關(guān)鍵詞：
荷蘭
半導(dǎo)體
ASML
