ASML 依計劃年底推出首款High NA EUV 微影曝光設備
2023-09-07 08:06:57 互聯網荷蘭半導體設備制造商艾司摩爾(ASML) 執行長Peter Wennink 表示，盡管有些供應商阻礙，但年底將照計畫，推出下一世代產品線首款產品。
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高數值孔徑(High NA) EUV 微影曝光設備只有卡車大小，但每臺成本超過3 億歐元(約新臺幣102 億元)。與相機一樣，高數值孔徑(High NA) EUV 微影曝光設備將從更寬角度收集光線，解析度提高70%。對領先半導體制造商生產先進半導體晶片是不可或缺的設備，十年內生產面積更小、性能更好的晶片。
ASML 是歐洲最大半導體設備商，主導微影曝光設備市場，微影曝光設備是半導體制造關鍵步驟，但高數值孔徑(High NA) EUV，Peter Wennink 指有些供應商提高產能及提供適當技術遇到困難，導致延誤。但即便如此，第一批產品仍會在年底推出。
市場只有臺積電、英特爾、三星、SK 海力士和美光使用ASML 產品。目前EUV 微影曝光設備每套價格超過2 億美元(約新臺幣64 億元)。美國壓力下，荷蘭政府不發給ASML 出口中國晶片制造商EUV 微影曝光設備許可證，使中國推動先進半體制程面臨瓶頸。
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