突破壁壘，全新方法！俄羅斯正研發EUV級光刻機：ASML都沒有！
2022-04-02 12:06:35 EETOP據稱世界上還沒有這種類似裝置，技術原理與EUV光刻機完全不同，但號稱光刻精度可以達到EUV級別！根據一些專家的說法，這項工作應該在十五年前就開始了。
目前世界上僅ASML一家可以生產EUV光刻機，但由于地緣政治的原因，EUV光刻機目前對俄羅斯和中國是禁止出售的。實時上俄羅斯也一直在努力可以能夠制造一種性能接近于EUV的光刻機，已突破限制。EUV光源其波長為13.5 nm 甚至更小，俄羅斯科學家獨辟蹊徑采用了波長更小的X 射線來做輻射源，因此光刻分辨率或許要高很多。
不過由于這是無掩模光刻機，是否意味著僅能用于特定場景的光刻？能否像EUV那樣生產出超高集成度的芯片？這個還需后續進一步了解。
目前的工作方向
MIET目前開展的研究工作旨在對X射線納米光刻技術領域的兩種基本技術解決方案進行實驗測試--基于MOEMS（微光機電系統）的動態掩模的生產和實驗研究：(1）具有 X 射線反射系數控制的無掩模 X 射線光刻方案（2）具有 X 射線透射率控制的無掩模 X 射線光刻光刻方案
帶有 X 射線反射系數控制的無掩模 X 射線光刻方案
具有 X 射線透射率控制的無掩模 X 射線光刻方案
在第二種情況下，將使用同步輻射源，即 NIIFP 的 Zelenograd 同步加速器。同步輻射是X射線的一種形式，其波長范圍從幾分之一埃米到紅外線，這使得它可以用于X射線光刻技術。
