全新Calibre x ACT產(chǎn)品滿足先進工藝廣泛寄生電路參數(shù)提取需求
2015-04-23 08:39:51 EETOP俄勒岡州威爾遜維爾2015年4月22日電 /美通社/ -- Mentor Graphics 公司（納斯達克代碼：MENT）今天宣布推出全新 Calibre® xACT™ 寄生電路參數(shù)提取平臺，該平臺可滿足包括 14nm FinFET 在內(nèi)廣泛的模擬和數(shù)字電路參數(shù)提取需求，同時最大限度地減少 IC 設計工程師的猜測和設置功夫。 Calibre xACT 平臺可借由自動優(yōu)化電路參數(shù)提取技術，針對客戶特定的工藝節(jié)點、產(chǎn)品應用、設計尺寸大小及電路參數(shù)提取目標，實現(xiàn)精準度和周轉時間 (TAT) 的最佳組合。采用 Calibre xACT 平臺進行電路寄生參數(shù)提取在滿足最嚴格的精準度要求的同時，還讓客戶體驗到了減少高達 10 倍的周轉時間。
圖標 - http://photos.prnewswire.com/prnh/20140317/AQ83812LOGO
Samsung 在用于 14nm 技術的 Calibre xACT 平臺的開發(fā)和認證方面與 Mentor
Graphics 有著廣泛的合作，并憑借該平臺的高精準度性能將其應用于技術開發(fā)。
Calibre xACT 產(chǎn)品能夠?qū)蝹€規(guī)則檔案應用于一系列電路參數(shù)提取應用，使客戶能夠兼顧精準度和快速 TAT(Turn Around Time)，且無需手動修改其規(guī)則檔案或工具配置。
“我們在對領先的電路參數(shù)提取產(chǎn)品進行了仔細的基準檢驗后，選擇了將Calibre xACT作為簽核電路參數(shù)抽取工具標準并應用到我們所有的新一代設計中，”Cypress Semiconductor 公司 CAD 總監(jiān) Dragomir Nikolic 說道。 “包括在90 nm和65 nm制程節(jié)點上的產(chǎn)品。 我們發(fā)現(xiàn)，在眾多目標在最尖端工藝節(jié)點電路參數(shù)提取產(chǎn)品中，Calibre xACT 可提供高精準度和快速周轉時間的最佳組合。 此外，我們也看到 Calibre xACT電路參數(shù)提取工具有能力在各種各樣的應用（從晶體管級別到全芯片數(shù)字電路參數(shù)提取）中產(chǎn)生最佳結果，這種能力是非常有價值的。”
在整個設計周期內(nèi)，電路設計工程師必須在性能和精準度之間權衡取舍。寄生電路參數(shù)提取也不例外。在使用較為復雜的 FinFET 組件的先進工藝節(jié)點上，設計工程師始終致力于追求更為嚴苛的精準度，也需要更高的性能和容量來實現(xiàn)十億級晶體管設計。事實上，在現(xiàn)代 IC 中，所有制程節(jié)點都隨著內(nèi)存、模擬電路、標準單元庫以及客制化數(shù)字內(nèi)容的混合變得日益復雜。這種復雜性為電路參數(shù)提取工具帶來了一系列不同的挑戰(zhàn)。為了應對這些挑戰(zhàn)，Calibre xACT 平臺將精簡模型、解電磁場技術(Field Solver)以及高效的多 CPU 擴展 (scaling)技術融為一體，以確保實現(xiàn)有可靠精準度并滿足計劃所要求的期限。
Calibre xACT 電路參數(shù)提取平臺與整個 Calibre 產(chǎn)品線整合，實現(xiàn)了無縫驗證流程，其中包括用于完整晶體管級模型的 Calibre nmLVS™ 產(chǎn)品，以及用于針對極高精準度電路參數(shù)提取應用的 Calibre xACT 3D 產(chǎn)品。 此外，它還納入了第三方設計環(huán)境和格式，以確保與現(xiàn)有的設計和仿真流程相兼容。
EETOP 官方微信
創(chuàng)芯大講堂 在線教育
半導體創(chuàng)芯網(wǎng) 快訊
相關文章
