昭和電工增產(chǎn)高純度氟化氧以滿足半導(dǎo)體制造需求
2015-04-23 08:26:59 PNC 昭和電工于2015年4月21日宣布，將強(qiáng)化高純度氟化氫（HF）的生產(chǎn)體制。在增強(qiáng)現(xiàn)有設(shè)備的同時(shí)，還將在中國建設(shè)新設(shè)備，滿足半導(dǎo)體制造工序中不斷擴(kuò)大的應(yīng)用需求。
高純度HF在半導(dǎo)體制造工序中的主要用途是，去除CVD（化學(xué)氣相沉積）爐上附著的不需要的化學(xué)物質(zhì)。近年來，高純度HF還被廣泛應(yīng)用于名為“化學(xué)氧化物
去除處理”（Chemical Oxide
Removal：COR）的干蝕刻工序。COR與利用以往藥劑的濕蝕刻相比生產(chǎn)效率更加出色，而且其成本比等離子體蝕刻更低，因此作為新型微細(xì)化蝕刻工藝
備受關(guān)注。伴隨這一趨勢，該工序使用的高純度HF的需求也在不斷擴(kuò)大，因此昭和電工決定強(qiáng)化生產(chǎn)。
在此次的體制強(qiáng)化中，昭和電工已于2015年3月將川崎事業(yè)所（川崎市）已有設(shè)備的產(chǎn)能提高了一倍。此外還將在其全資子公司——上海昭和電子化學(xué)材料有限
公司內(nèi)新建生產(chǎn)設(shè)備，以滿足中國市場的需求。新設(shè)備計(jì)劃2015年4月開工建設(shè)，年內(nèi)投入運(yùn)轉(zhuǎn)。按計(jì)劃，新設(shè)備的產(chǎn)能與川崎事業(yè)所為同等規(guī)模。
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