臺積電EUV光刻機效率取得重大進展
2025-09-19 11:54:08 EETOP據臺灣地區科技媒體technews報道，臺積電（TSMC）提升ASML極紫外光（EUV）光刻機效率取得重大進展，2019年以來，臺積電以系統級優化及自研薄膜材料，使EUV生產晶圓產量增加30倍，同時電力消耗減少24%。 身為全球最大EUV用戶，臺積電有約200臺機臺，2024~2025年再新增60多臺，支撐先進制程擴產需要。
臺積電核心優勢來自硬件設備及材料供應鏈掌控力，甚至計劃改造一座200毫米工廠專門生產自研EUV薄膜，性能超過ASML原廠，展現臺積電制程與材料整合實力。 薄膜壽命增加四倍，單片晶圓產能提升4.5倍，瑕疵品大幅降低。
2019年首次于華為麒麟9000處理器導入EUV后，臺積電控制全球超過42%~56%的EUV機臺裝機量，且持續投資最佳化制程，包括曝光劑量微調、曝光材料改良及預測性維護，大幅提升每日機臺利用率與生產效率。 這些成果為即將量產的2納米提供堅實基礎，持續鞏固臺積電的全球半導體代工龍頭地位。
