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一文看透!俄羅斯首臺光刻機的技術(shù)成色及現(xiàn)狀

2025-04-01 11:55:28 EETOP
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不久前,來自莫斯科的澤列諾格勒納米技術(shù)中心(簡稱ZNTC)與白俄羅斯半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商Planar宣布已開發(fā)出俄羅斯第一套可支持350納米級制程技術(shù)(0.35微米)的光刻機系統(tǒng)。

那么此套光刻機具體技術(shù)如何?在世界處于何種地位?接下來的內(nèi)容為大家簡單分析一下。

國外科技媒體tomshardware報道,此款光刻機的研發(fā)得到了白俄羅斯普萊納公司的協(xié)助。這臺機器已通過官方檢測,目前正在澤列諾格勒進行集成測試。盡管該系統(tǒng)具有象征意義,但其設(shè)計已落后數(shù)十年,而且尚不清楚ZNTC能否實現(xiàn)其批量生產(chǎn)。

一種新工具

ZNTC 的光刻工具是一臺 200 毫米光刻機,基于固態(tài)激光器,曝光場尺寸為 22 毫米 ×22 毫米(484 平方毫米)。ZNTC和普萊納公司并未透露該工具的關(guān)鍵技術(shù)細節(jié),包括所使用激光器的波長,以及激光器能夠發(fā)出的功率。不過,他們表示該工具使用了一種節(jié)能的 “固態(tài)” 激光器,其發(fā)射范圍 “更窄”,使用壽命更長。

使用固態(tài)光源似乎是一個重要細節(jié),這不僅使該工具有別于領(lǐng)先晶圓廠設(shè)備制造商所設(shè)計的工具,也可能暗示了該公司未來的發(fā)展計劃。

鑒于ZNTC發(fā)布的聲明相當(dāng)模糊(或許是為了對其自身以及合作伙伴的進展情況保密),有必要研究一下阿斯麥(ASML)那些廣為人知的生產(chǎn)工具,以便更好地了解ZNTC所取得的成果。

阿斯麥為 200 毫米晶圓設(shè)計的光刻工具,用于支持從 350 納米到 130 納米的工藝技術(shù),傳統(tǒng)上會根據(jù)具體的光刻型號和工藝節(jié)點要求,采用兩種主要類型的紫外線(UV)照明光源之一:汞弧燈、氟化氪(KrF)或氟化氬(ArF)激光器。

對于 350 納米及更低端的工藝技術(shù),阿斯麥的 i 線步進光刻機使用波長為 365 納米的汞弧燈(405 納米和 436 納米的情況較少見)。對于 250 納米及更高端的工藝節(jié)點,阿斯麥使用波長為 248 納米的氟化氪(KrF)激光器。從 130 納米工藝節(jié)點開始,阿斯麥的深紫外光刻系統(tǒng)則使用波長為 193 納米的氟化氬(ArF)激光器。

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固態(tài)光源?

細心的讀者可能會問:“半導(dǎo)體生產(chǎn)中的固態(tài)激光器是什么?” 固態(tài)激光器在半導(dǎo)體制造中應(yīng)用廣泛,但在先進工藝節(jié)點的主光刻曝光環(huán)節(jié)并不使用。相反,它們被用于輔助工作,如晶圓檢測、缺陷分析、標記以及微加工工藝,包括晶圓切割或元件修整等。

波長約為 365 納米的固態(tài)激光器(三倍頻 Nd:YAG 激光器)也可用于成熟工藝節(jié)點(如≥250 納米)的光刻,因為它們穩(wěn)定、高效且可靠。然而,如上所述,自 20 世紀 90 年代末以來,阿斯麥一直使用基于氣體的準分子激光器(248 納米的 KrF、193 納米的 ArF)或汞燈(365 納米 i 線)。

這就很有意思了,因為ZNTC表示正在研發(fā)一款能夠支持 130 納米級工藝技術(shù)的光刻系統(tǒng),不過預(yù)計要到 2026 年某個時候才能完成研發(fā)。

為時已晚?

雖然 350 納米級工藝技術(shù)仍用于某些設(shè)備,但以如今的標準來看已經(jīng)過時了。20 世紀 90 年代中期,英特爾在奔騰 MMX、奔騰 Pro 和早期奔騰 II CPU 中使用了這一工藝節(jié)點,而 AMD 大約在 1997 年也用同樣的技術(shù)生產(chǎn)了 K6 處理器。如今,先進芯片采用的是 5 納米級或更先進的工藝技術(shù)。

就連像安格斯特姆(Angstrem)和米克朗(Mikron)這樣的俄羅斯芯片制造商也不采用 350 納米的工藝進行生產(chǎn)。這兩家公司的生產(chǎn)分辨率都在 250 納米到 90 納米之間。因此,這款新的光刻機與俄羅斯主要晶圓廠的現(xiàn)有生產(chǎn)工藝節(jié)點不匹配,這就限制了它在俄羅斯國內(nèi)生產(chǎn)商非關(guān)鍵層生產(chǎn)中的直接商業(yè)價值,這些生產(chǎn)商將繼續(xù)使用走私進入俄羅斯的阿斯麥 PAS 5500 系列光刻工具。

不過,ZNTC的這款工具在特定領(lǐng)域可能仍有一定的用武之地。一些汽車電源管理集成電路采用的是成熟工藝,軍事應(yīng)用也可能會從這種工具中受益,因為軍事應(yīng)用并不總是需要最尖端的性能。

盡管如此,這臺新機器的主要目標似乎還是作為開發(fā)更強大版本的基礎(chǔ)。ZNTC目前正在研發(fā)一款針對 130 納米級工藝技術(shù)的新型號,預(yù)計 2026 年完成。這一版本是俄羅斯政府制定的長期路線圖的一部分,該路線圖的目標是到 2025 年底實現(xiàn)國內(nèi) 90 納米工藝的生產(chǎn),到 2027 年實現(xiàn) 28 納米,到 2030 年實現(xiàn) 14 納米。ZNTC和俄羅斯的其他相關(guān)機構(gòu)目前的進展遠遠落后于這一計劃。


關(guān)鍵詞: 俄羅斯 光刻機 半導(dǎo)體

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