單價近30億元！三星明年初將引進首臺ASML High NA EUV光刻機
2024-10-31 09:08:16 未知當地時間昨日，韓媒ETNews報道稱，三星電子已作出決定，將在2025年初引進其首臺ASML High NA EUV光刻機（該設備單臺售價約為3.2至4.3億美元，折合人民幣接近30億元），標志著三星正式加入與英特爾、臺積電在下代光刻技術商業化研發領域的競爭。
此前，三星電子已與比利時微電子研究中心imec展開合作，在imec與ASML共同建立的High NA EUV光刻實驗室中，對High NA光刻技術進行了初步探索。此次引進自有High NA機臺，無疑將加速三星在光刻技術領域的研發步伐。
▲ ASML首代High NA EUV光刻機EXE:5000
鑒于精密的High NA EUV光刻機需要一定的時間進行安裝和調試，預計該機臺最早將于明年中旬投入研發使用。根據三星目前的半導體先進制程路線圖，其已規劃至SF1.4節點（注：預計2027年量產），而采用High-NA光刻的制程則至少需等到SF1階段。
在先進制程代工領域，三星面臨的兩大主要競爭對手中，英特爾已完成第二臺High NA EUV光刻機的安裝，而臺積電的首個機臺也預計將在今年內實現交付。此外，在存儲領域，SK海力士則計劃于2026年引入其首臺High NA EUV光刻機。
