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價值3.83億美元!英特爾正接收第二臺高數值孔徑極紫外光刻機

2024-08-06 11:09:28 EETOP
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英特爾公司8月1日財報電話會議記錄,該公司首席執行官帕特·基辛格表示,英特爾正在接收荷蘭ASML的第二臺價值3.5億歐元(3.83億美元)的“高數值孔徑”(High NA)極紫外光刻機(EUV)。

英特爾從去年12月份開始接收首批需要數月時間才能安裝完成的巨型機器,這批機器有望助力新一代更強大的計算機芯片的制造。

英特爾于去年12月開始接收首臺大型機器,這些機器的安裝需要數月時間,預計將使新一代更強大的計算機芯片成為可能。

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基辛格在電話會議上說:“第二臺高數值孔徑設備正在運往我們的俄勒岡工廠。”他補充說,公司的技術投資顯示出良好的早期指標。

由于擔心英特爾的扭虧前景,該公司股價大幅下跌,此言論并未引起關注。

作為計算機芯片制造商的最大設備供應商,ASML拒絕對具體客戶的采購事宜發表評論。

ASML高管于7月17日表示,該公司已開始向一位未透露姓名的客戶運送第二臺高數值孔徑極紫外光刻機。

作為歐洲最大的技術公司,ASML能否成功推出高數值孔徑極紫外光刻機對其未來發展至關重要,但客戶何時會采用這項技術尚存疑問。

該公司已收到多家領先芯片制造商的十幾臺高數值孔徑極紫外光刻機訂單,包括臺積電、三星電子、英特爾,以及存儲芯片專業制造商SK海力士和美光科技。

英特爾計劃到2027年將這項技術用于商業生產。為英偉達和蘋果制造芯片臺積電今年將收到一臺機器,但尚未透露將在何時將其用于生產。

英特爾計劃在2027年將這項技術用于商業生產。為英偉達和蘋果制造芯片臺積電將于今年接收一臺這樣的設備,但尚未表示何時將其投入生產。

ASML CEO克里斯托夫·富凱在7月17日表示,DRAM存儲芯片制造商——指三星、SK海力士或美光——可能在2025或2026年開始使用高數值孔徑設備。


關鍵詞: 高數值孔徑 EUV 光刻機

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