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消息稱SK海力士將在1c DRAM 生產中采用新型Inpria MOR光刻膠

2024-05-30 07:58:06 IT之家
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5 月 30 日消息,隨著 DRAM 小型化的不斷推進,SK 海力士、三星電子等公司正在致力于新材料的開發和應用。

據 TheElec,SK Hynix 計劃在第 6 代(1c 工藝,約 10nm)DRAM 的生產中使用 Inpria 下一代金屬氧化物光刻膠(MOR),這是 MOR 首次應用于 DRAM 量產工藝。

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圖片來源:pixabay

消息人士稱,SK Hynix 量產的 1c DRAM 上有五個極紫外 (EUV) 層,其中一層將使用 MOR 繪制。他還補充說,“不僅 SK 海力士,三星電子也將追求這類無機 PR 材料?!?/span>

,Inpria 是日本化學公司 JSR 的子公司,也是無機光刻膠領域的領導者;而 MOR 則被認為是目前用于先進芯片光刻的化學放大光刻膠(CAR)的下一代產品。

此外,該公司自 2022 年以來就一直與 SK Hynix 合作進行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾表示,使用 Sn(基)氧化物光刻膠將有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本。

TheElec 報道還指出,三星電子也在考慮將 MOR 應用于 1c DRAM,目前三星電子在 1c DRAM 上應用了 6 至 7 個 EUV 層,而美光則只應用了 1 層。


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關鍵詞: SK海力士 半導體 DRAM

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