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單價超19億 Intel下單訂購首臺ASML最先進EUV光刻機

2022-01-20 09:38:57 快科技
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1月19日最新消息,Intel宣布第一個下單訂購了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機。TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(數值孔徑)EUV光刻機,其吞吐量超每小時220片晶圓(wph)。從路線圖來看,EXE:5200預計最快2024年底投入使用,2025年開始大規模應用于先進芯片的生產。

事實上,4年前,ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻機EXE:5000,Intel就是第一個下單的公司。不過當前的7nm、5nm芯片還并非是其生產,而是0.33NA EUV光刻機。

 

 

和0.33NA光刻機相比,0.55NA的分辨率從13nm升級到8nm,可以更快更好地曝光更復雜的集成電路圖案,突破0.33NA單次構圖32nm到30nm間距的極限。

 

外界預計,第一代高NA光刻機EXE:5000會率先用于3nm節點,至于EXE:5200,按照Intel的制程路線圖,2025年至少是20A或者18A(A代表埃米),也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。

 

此前,ASML發言人曾對媒體透露,更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝,將極度依賴高NA EUV光刻機。

 

最后不得不說,Intel能搶到第一單,除了和ASML一致緊密合作外,當然也是因為“鈔能力”,Gartner分析師Alan Priestley稱,0.55NA下一代EUV光刻機單價將翻番到3億美元(約合19億元人民幣)。


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關鍵詞: Intel ASML EUV

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