EUV光刻機(jī)已進(jìn)入安裝階段，SK海力士10納米DRAM即將亮相
2021-01-21 15:57:29
EETOP
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因此業(yè)內(nèi)人士有諸多揣測，包括將研究大樓R3的2臺EUV光刻機(jī)轉(zhuǎn)移至該產(chǎn)線，并計(jì)劃于今年2月開始安裝新購買的設(shè)備等。現(xiàn)在看來，SK海力士新設(shè)備的購買和安裝速度快于業(yè)界預(yù)期。
隨著EUV關(guān)鍵設(shè)備安裝工作的全面展開，開展EUV項(xiàng)目的SK Hynix Task Force（TF）的角色也發(fā)生了變化。據(jù)報(bào)道，EUV TF由韓國科學(xué)技術(shù)研究院內(nèi)的鄭泰宇副院長負(fù)責(zé)，目前正進(jìn)入1a DRAM研發(fā)定案階段，并專注于向量產(chǎn)線轉(zhuǎn)移技術(shù)。據(jù)悉，三星電子在研發(fā)階段已經(jīng)獲得了可觀的良率。而SK海力士在準(zhǔn)備生產(chǎn)EUV DRAM的同時(shí)，力求在線寬上有所突破，并提高集成度。
關(guān)鍵詞：
EUV
光刻機(jī)
1納米
ASML
EUV光刻機(jī)
海力士
