10納米 2019←工藝節(jié)點→2029 1.4納米，英特爾最新路線圖曝光，支持節(jié)點回退
2019-12-11 11:11:48 EETOP
英特爾的制造工藝節(jié)點技術(shù)預(yù)計將以2年為周期，從2019年的10nm開始，到2021年的7nm EUV,2023年的5nm，2025年的3nm,2027年的2nm，2029年的1.4nm。1.4納米這是第一次被提到。這代表了英特爾的發(fā)展方向，1.4納米是什么概念？它僅僅相當(dāng)于12個硅原子。
正如Intel前面所說的，在每個進程節(jié)點之間都有一個迭代的+和++版本，以便從每個進程節(jié)點提取更高的性能。英特爾相信，他們可以在一年的周期內(nèi)做到這一點，但也有重疊的團隊，以確保一個完整的進程節(jié)點可以與另一個節(jié)點重疊。
（back porting）。在幻燈片中，它顯示了英特爾將允許工作流程，以便任何第一代7nm設(shè)計都可以反向移植到10 +++，任何第一代5nm設(shè)計都可以反向移植到7 ++，然后從3nm移植到5++，2nm至3 ++等。有人可能會說，此路線圖可能對日期沒有嚴(yán)格要求-我們已經(jīng)看到英特爾在10nm制程已經(jīng)花費了很長的時間，所以期望公司每年更新一次+，兩年更新一次主要過程技術(shù)節(jié)點將會是一個非常樂觀和積極的節(jié)奏策略。
開發(fā)研究
在這次IEDM會議上有很多關(guān)于5nm制程的討論，因此其中的一些改進(如制造、材料、一致性等)最終將在英特爾的5nm制程中實現(xiàn)，這取決于他們與哪個設(shè)計公司合作(比如應(yīng)用材料公司)。值得注意的是，5nm被列為2023節(jié)點，大約在這個時候，ASML將開始銷售其“HighNA”EUV光刻機。
值得一提的是，根據(jù)這張幻燈片的標(biāo)題，英特爾仍然相信摩爾定律。只是不要問它要花多少錢。（原文鏈接：https://www.anandtech.com/show/15217/intels-manufacturing-roadmap-from-2019-to-2029）
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