表面微機械加工技術(shù)是在單晶硅片(silicon wafer)上面生產(chǎn)的厚晶層(又稱外延層)內(nèi)制作能夠活動的微型結(jié)構(gòu)。外延層的厚度通常是25微米,相當于白血細胞的直徑。外延層制程包括新材料沉積、切割和掩模光刻(photolithographic masking),這些工序的目的是在MEMS產(chǎn)品內(nèi)制作能夠活動的結(jié)構(gòu);這個活動結(jié)構(gòu)的大小與產(chǎn)品的靈敏度相關(guān)。表面微機械加工的能效和成本效益非常優(yōu)異,是消費電子、移動裝置和物聯(lián)網(wǎng)(IoT, Internet of Things)應(yīng)用的理想選擇。