EUV 晶圓產量：2019-2022
2023-06-28 10:20:29 EETOP在 2023 年 SPIE 高級光刻和圖案化會議上，ASML 展示了其該領域 EUV 光刻系統的最新動態。EUV 晶圓曝光輸出如下表所示：
根據這些信息，我們可以嘗試提取和評估每季度的 EUV 晶圓產量。首先，由于有些季度沒有報告產出，我們將使用四次多項式擬合進行插值。使用四次多項式作為最佳擬合，因為已有五個數據點可用。
2019 年至 2022 年累計 EUV 晶圓曝光量。第 0 季度對應 2019 年第一季度之前。
對于每個季度，我們可以計算出每個 EUV 設備每天的平均晶圓數量，方法是取連續兩個季度暴露的晶圓之間的差異，除以兩個季度可用系統數量的平均值，然后除以 90 天。結果趨勢如下圖所示：
2019 年至 2022 年每個季度每個 EUV 系統每天的平均晶圓數量。
每個設備的平均 EUV 曝光量在幾個季度內突破了每天 1000 片晶圓，但最近已降至每天 904 片晶圓，即每小時不到 40 片晶圓。與每小時 120-180 片晶圓的報告值相比，這看起來是一個令人驚訝的低吞吐量，這意味著什么？
第一種可能性是 EUV 工具根本不經常使用，并且大部分時間都處于閑置狀態。第二種可能性是工具大部分時間都處于維護狀態。然而，據報道，正常運行時間 >90% 。第三種可能性是更高的劑量，可能超過 100 mJ/cm2，以解決隨機效應。然而，這似乎與為實現已發布的吞吐量目標所做的所有工作背道而馳。另一種可能性是該圖表沒有單獨計算晶圓上的多層曝光。因此，例如，每小時 120 片晶圓的 15 個 EUV 層看起來就像每小時 8 片晶圓。然而，與平均每小時約 40 片晶圓相比，這個數字甚至更低的產出率！差異在哪里？尚未考慮研發 (R&D) 晶圓。如果所有運行的 EUV 晶圓中只有 20% 用于生產，那么這個數字可能會更合理。可能的細分如下：
2022 年第四季度 EUV 使用細分的示例。在這種情況下，正常運行時間分配為 20% 用于生產，20% 用于研發，60% 空閑。由此產生的月產量為 933,333 片晶圓/月。假設晶圓生產速度為 120 WPH，研發速度為 128 WPH。
作為參考，據報道臺積電月產量高達 150,000 片晶圓/月。如果月產量不超過 90 萬片/月，但實際約為 25 萬片/月（臺積電的份額占全球總量的 60%），則產量比例需要約為 5.3%。在晶圓運行速率相同的情況下，研發和空閑時間比例不會發生明顯變化。
在此示例中，正常運行時間分配為 5.3% 用于生產，28% 用于研發，67% 用于閑置。由此產生的月產量為 247,333 片晶圓/月。假設晶圓生產速度為 120 WPH，研發速度為 128 WPH。
顯著的差異是每個生產晶圓的層數。平均而言，它已增加到 57。這必須包括許多情況下給定圖層的多次曝光。例如，14 層進行四次曝光，1 層進行單次曝光，總共提供 15 個 EUV 層和 57 次 EUV 曝光。
在上述兩個例子中，均未考慮良率損失。如果我們假設每月的產量實際上是 42 萬片，但良率損失使其降至 25 萬片，則生產利用率為 9%。33 次 EUV 曝光可能來自 6 層四次曝光和 9 層單次曝光，總共 15 層 EUV。
在此示例中，正常運行時間分配為 9% 用于生產，26% 用于研發，65% 空閑。由此產生的月產量為 420,000 片晶圓/月。假設晶圓生產速度為 120 WPH，研發速度為 128 WPH。
考慮上述場景后得出的結果是，如果我們假設 EUV 系統運行在每小時至少 120 片晶圓。否則，如果工具沒有閑置或維護或修理那么長的時間，則實際運行吞吐量通常（平均）<40 片/小時。解決隨機效應的非常高的劑量自然會導致如此低的吞吐量。
原文：https://semiwiki.com/lithography/330986-assessing-euv-wafer-output-2019-2022
