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壞消息:臺(tái)積電停止SRAM微縮!卡在了5納米!

2022-12-16 12:03:03 EETOP
點(diǎn)擊關(guān)注->創(chuàng)芯網(wǎng)公眾號(hào),后臺(tái)告知EETOP論壇用戶(hù)名,獎(jiǎng)勵(lì)200信元
來(lái)源:EETOP綜合整理自WikiChip、tomshardware

根據(jù)WikiChip的一份報(bào)告,臺(tái)積電的SRAM微縮速度已經(jīng)大大放緩。當(dāng)涉及到全新的制造節(jié)點(diǎn)時(shí),我們希望它們能夠提高性能、降低功耗并增加晶體管密度。但是,盡管邏輯電路在最近的工藝技術(shù)中得到了很好的擴(kuò)展,但SRAM單元一直落后,顯然在臺(tái)積電的3nm級(jí)生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)上幾乎停止了微縮。對(duì)于未來(lái)的CPU、GPU和SoC來(lái)說(shuō),這是一個(gè)主要問(wèn)題,由于SRAM單元區(qū)域微縮緩慢,它們可能會(huì)變得更加昂貴。

SRAM 微縮速度放緩

當(dāng)臺(tái)積電今年早些時(shí)候正式推出其N(xiāo)3制造技術(shù)時(shí),它表示,與其N(xiāo)5(5nm級(jí))工藝相比,新節(jié)點(diǎn)將在邏輯密度方面提供1.6倍和1.7倍的改進(jìn)。它沒(méi)有透露的是,與N5相比,新技術(shù)的SRAM單元幾乎無(wú)法微縮,根據(jù)WikiChip的說(shuō)法,WikiChip從國(guó)際電子設(shè)備會(huì)議(IEDM)上發(fā)表的臺(tái)積電論文中獲得了信息。

臺(tái)積電的N3具有0.0199μm2的SRAM位單元大小,與N5的0.021μm2 SRAM位單元相比僅縮小了~5%。改進(jìn)后的N3E變得更糟,因?yàn)樗鋫淞?.021 μm2 SRAM位單元(大致轉(zhuǎn)換為31.8 Mib / mm2),這意味著與N5相比根本沒(méi)有縮放。

同時(shí),英特爾intel 4(最初稱(chēng)為7nm EUV)將SRAM位單元尺寸從Intel 7(以前稱(chēng)為10nm Enhanced SuperFin)的0.0312μm2減小到0.024μm2(大致轉(zhuǎn)換為27.8 Mib / mm2),這有點(diǎn)落后于臺(tái)積電的HD SRAM密度。

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此外,WikiChip還回顧了Imec的一次演示,該演示文稿顯示在帶有叉形晶體管的“超過(guò)2nm節(jié)點(diǎn)”上SRAM密度約為60 Mib / mm2。不過(guò)這種工藝技術(shù)還需要數(shù)年時(shí)間,從現(xiàn)在到那時(shí),芯片設(shè)計(jì)人員將不得不開(kāi)發(fā)英特爾臺(tái)積電宣傳的SRAM密度處理器(盡管英特爾4不太可能被英特爾以外的任何人使用)。

后果很?chē)?yán)重!

這是個(gè)嚴(yán)重的壞消息!從這個(gè)角度來(lái)看,雖然N3B和N3E據(jù)說(shuō)都提供了1.6倍和1.7倍的芯片級(jí)晶體管縮放,但SRAM的1.0倍和1.05倍縮放是災(zāi)難性的。現(xiàn)在,我們?nèi)匀活A(yù)計(jì)臺(tái)積電會(huì)在某個(gè)時(shí)候?yàn)镹3推出更密集的SRAM位單元變體,我們確實(shí)希望將來(lái)看到SRAM的某種程度的微縮,但舊的SRAM微縮似乎已經(jīng)死了。

假設(shè)在TSMC N16上有一個(gè)100億個(gè)晶體管芯片,其中40%是SRAM, 60%是邏輯晶體管。忽略實(shí)際限制和模擬/物理/等等,這樣一個(gè)假設(shè)的芯片芯片面積約為255毫米2,其中45毫米2(或17.6%)為SRAM。將完全相同的芯片縮小到N5將產(chǎn)生一個(gè)56毫米2的芯片,其中12.58毫米2或占22.5%的芯片面積的SRAM。將芯片進(jìn)一步縮小到N3將產(chǎn)生一個(gè)44毫米2的芯片,SRAM的面積依然是12.58毫米2,這將占據(jù)芯片面積的近30%。

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當(dāng)然,影響不會(huì)全面感受到。芯片上的SRAM和緩存百分比因目標(biāo)市場(chǎng)和整體能力而異。然而,對(duì)于一些人工智能硬件初創(chuàng)公司來(lái)說(shuō),其架構(gòu)要求SRAM覆蓋芯片的很大一部分,這些工程師將比其他工程師更快地遇到更多的挑戰(zhàn)。

現(xiàn)代芯片中的SRAM

現(xiàn)代 CPU、GPU 和 SoC 在處理數(shù)據(jù)時(shí)將 SRAM用于各種緩存,并且從內(nèi)存中獲取數(shù)據(jù)的效率極低,尤其是對(duì)于各種人工智能AI) 和機(jī)器學(xué)習(xí) (ML) 工作負(fù)載。但如今,即使是智能手機(jī)的通用處理器、圖形芯片和應(yīng)用處理器也攜帶著巨大的緩存:AMD的Ryzen 9 7950X總共攜帶81MB的緩存,而英偉達(dá)的AD102至少使用123MB的SRAM用于英偉達(dá)公開(kāi)披露的各種緩存。

展望未來(lái),對(duì)緩存 SRAM的需求只會(huì)增加,但對(duì)于N3(設(shè)置為僅用于少數(shù)產(chǎn)品)和N3E,這就無(wú)法減少SRAM占用的芯片面積,也無(wú)法降低與N5相比的新節(jié)點(diǎn)的更高成本。從本質(zhì)上講,這意味著高性能處理器芯片尺寸將會(huì)增加,因此它們的成本也會(huì)增加。同時(shí),與邏輯單元一樣,SRAM單元也容易出現(xiàn)缺陷。在某種程度上,芯片設(shè)計(jì)人員將能夠通過(guò)N3的FinFlex創(chuàng)新(在一個(gè)模塊中混合和匹配不同類(lèi)型的FinFET,以?xún)?yōu)化其性能,功率或面積)來(lái)緩解較大的SRAM單元,但在這一點(diǎn)上,我們只能猜測(cè)這將帶來(lái)什么樣的成果。臺(tái)積電計(jì)劃推出其密度優(yōu)化的N3S工藝技術(shù),與N5相比,該技術(shù)有望縮小SRAM位單元的尺寸,但這將在2024年左右發(fā)生,我們想知道這是否會(huì)為AMD、Apple、Nvidia和高通設(shè)計(jì)的芯片提供足夠的邏輯性能。

緩解措施?

從成本角度來(lái)看,減緩SRAM面積微縮速度的方法之一是采用多芯片設(shè)計(jì),并將較大的緩存分解到更便宜的節(jié)點(diǎn)上的獨(dú)立芯片中。這是AMD在其3D V-Cache中所做的事情,盡管原因略有不同。另一種方法是使用替代內(nèi)存技術(shù),如eDRAM或FeRAM作為緩存,盡管后者有自己的特點(diǎn)。

無(wú)論如何,在3nm及以上使用基于FinFET的節(jié)點(diǎn)減緩SRAM縮放速度似乎是未來(lái)幾年芯片設(shè)計(jì)人員面臨的主要挑戰(zhàn)。

關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 3納米

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