NVIDIA揭密：28nm對開普勒能效的貢獻(xiàn)
2012-04-29 22:37:48 本站原創(chuàng)雖然有爆料稱NVIDIA對臺積電已經(jīng)恨之入骨，也有跡象表明NVIDIA正在尋求與GlobalFoundries、三星的代工合作，但對臺積電的依賴已經(jīng)如此之深，兩家還得好好合作下去。做為工程團(tuán)隊的領(lǐng)導(dǎo)，Joe Greco已經(jīng)在開普勒的制造上與臺積電合作了三年，今天他就分享了28nm工藝對開普勒能效的一些影響。
開普勒核心照片
相信大家也看出來了，與以往不同，開普勒這次特別強調(diào)自己擁有更高的能效(Power Efficency)，而不再單獨宣傳性能或者曲面細(xì)分之類的技術(shù)。Joe Greco也提到了一點，說開普勒的使命就是在每個能量單位(瓦特)上發(fā)揮最佳性能。
開普勒使用的臺積電28nm工藝是其中的HP高性能版本，并融入了其第一代高K金屬柵極(HKMG)、第二代硅鍺應(yīng)變(SiGe)技術(shù)。NVIDIA宣稱，此工藝相比于40nm可將運行功耗降低大約15％、漏電率降低大約50％，最終帶動整體能效提升大約35％，而在不同游戲中，GeForce GTX 680相比于GeForce GTX 580的能效提升幅度少則60％、多則可達(dá)100％。
顯微鏡下的臺積電
與開普勒能效提升
因為開普勒同時引入了新工藝和新架構(gòu)(NVIDIA是這么說的)，開發(fā)模式也不同于以往。從前，NVIDIA負(fù)責(zé)設(shè)計、臺積電負(fù)責(zé)制造，兩家各行其是，但這一次，開普勒流片之前三年雙方就開始了緊密合作，共同完成了生產(chǎn)認(rèn)證平臺(PQV)，使得臺積電工藝工程師和NVIDIA設(shè)計工程師可以在流片之前就對工藝進(jìn)行優(yōu)化。通過反復(fù)試驗原型，工藝和設(shè)計兩方面都進(jìn)行了優(yōu)化，最終得到了能效更高的開普勒，而不是簡單地將芯片工藝換成28nm。
最后還說，開普勒只是萬里長征中的一步，NVIDIA未來還會繼續(xù)與臺積電合作開發(fā)，事實上NVIDIA最近剛剛從臺積電那里拿到了20nm工藝增強版PQV的第一個版本，會在下下代GPU上獲得更高能效。
這就是說，2013年的“麥克斯韋”(Maxwell)仍會使用28nm，再往后的新一代就會進(jìn)步到20nm。
NVIDIA GPU路線圖C
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