三星電子(Samsung Electronics Co.)、
英特爾(Intel Corp.)與
臺積電(2330)展開
半導體先進制程大競賽，讓歐洲最大
半導體設備商艾司摩爾(
ASML Holding NV)連帶受惠！
ASML 15日發布新聞稿預測，第3季(7-9月)營收有望介于15億歐元(相當于16.5億美元)至16億歐元之間、毛利率約為45%，下半年前景相當看俏。根據彭博社調查，分析師原本預期
ASML Q3營收將達到15.1億歐元。
ASML并公布Q2財報：營收由前季的16.50億歐元略增至16.54億歐元，毛利率由47.2%降至45.6%，而凈利則由4.03億歐元下滑至3.70億歐元。
ASML
執行長Peter
Wennink在聲明稿中表示，在與美國某家大客戶簽訂大量采購的合約后，Q2期間總計接獲了六臺極紫外光(
EUV)微影設備訂單，其中兩臺預料會在今
(2015)年出貨，其余四臺的出貨時間則在明年；目前
EUV機臺的積壓訂單總計已有8臺之多。
Wennink認為，
EUV機臺距離量產階段已愈來愈近，預期今年下半年整體市況將續強，主要是拜記憶體與晶圓代工客戶的需求高于預期之賜。
ASML曾于4月22日發布新聞稿宣布，美國某大客戶已經下單，至少會訂購15臺
EUV微影設備。
三
星、IBM Corp.才剛剛朝7奈米先進制程跨進了一大步。華爾街日報、ZDNet等多家外電報導，IBM研究實驗室(IBM
Research)7月9日宣布，IBM與夥伴格羅方德
半導體(GlobalFoundries
Inc.)、三星和紐約州立大學奈米理工學院終于突破重大瓶頸、共同打造出全球首顆7奈米晶片原型，進度超越
英特爾等競爭對手。
IBM
半導體科技
研究部副總裁Mukesh Khare表示，這款
測試晶片首度在7奈米電晶體內加入一種叫做“矽鍺”(silicon
germanium，簡稱SiGe)的材料，并采用了
EUV微影技術。
ASML本身研發的
EUV設備一臺要價1.5億美元，相較之下他種微影系統一臺售價
只有5,000萬美元。Ars Technica 9日指出，7奈米制程晶片至少還要等兩年才能具有商業用途。
英特爾對14奈米制程技術的校正進度已延遲約六個月，目前正在開發10奈米技術、有望于2016年問世。
英特爾資深主管Mark Bohr最近曾表示，該公司的7奈米制程應該不需要改用
EUV設備，但他并未透露更多細節。
臺積電共同執行長劉德音曾在4月16日表示，
臺積電已開始研發7奈米制程技術，預計2017年就進入最后試產階段的風險生產(Risk Production)。
