工程師被判入獄14年！臺積電2nm泄密案偵查終結
2025-08-28 09:22:21 EETOP日前爆發的臺積電2納米泄密案，臺灣地區高等檢察署智慧財產檢察分署偵查終結，三名被告以違臺灣地區安全法、營業秘密法等罪責，分別被求處7~14年重刑，另外也分案續查是否有法人及自然人涉有相關刑事責任。
根據臺灣地區高等檢察署智慧財產檢察分署的新聞稿內容，檢察官指揮法務部調查局新竹市調查站、資安工作站及北部地區機動工作站，于 2025 年 7 月 25 日至 28 日辦理臺積電核心關鍵技術營業秘密被非法竊取案件。其中，在押被告陳男、吳男及戈男三人的涉案部分于 7 月 27 日偵查終結，檢方分別以違反《臺灣地區安全法》第 8 條第 2 項核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪、《營業秘密法》第 13 條之 2 意圖域外使用而竊取營業秘密罪、《營業秘密法》第 13 條之 1 竊取營業秘密罪等罪名提起公訴。其余三名未在押被告僅涉及《營業秘密法》第 13 條之 1 規定的告訴乃論刑責，因臺積電表示不提出告訴，已另行簽結處理。
陳男曾擔任臺積電 12 廠良率部門工程師，離職后到臺積電的半導體制造設備供應商東京電子（下稱 “TEL”）營銷部門任職。陳男因曾在臺積電工作，熟悉臺積電各項機密信息保護措施，也清楚臺積電嚴格要求供應商遵守保密約定，卻為幫助 TEL 爭取成為臺積電先進制程更多站點的設備供應商，多次利用與吳男、戈男及廖男（廖男未涉及域外使用意圖且未被提起告訴，已另行簽結）等臺積電在職員工的舊交情，請求他們提供工作中能接觸到的臺積電核心關鍵技術商業秘密檔案或商業秘密，供自己拍攝復制，以便 TEL 研究改善蝕刻機臺性能，爭取獲得臺積電 2 納米制程蝕刻站點量產機臺的供應資格。后來因臺積電察覺異常，經內部調查后，于 2025 年 7 月 8 日向相關部門提出告訴。
臺檢察機關經多次提審在押的三名被告及相關證人，分析涉案電子數據及物證后，認定三名被告犯罪事實清楚，于當日偵查終結并提起公訴。本案涉及臺灣地區產業命脈的核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業的國際競爭力，被告三人犯罪情節惡劣，因此請求從嚴量刑如下：
被告陳男涉嫌觸犯《營業秘密法》第 13 條之 2 “意圖域外使用而竊取營業秘密罪”，建議判處有期徒刑 5 年；觸犯《營業秘密法》第 13 條之 1 “竊取營業秘密罪”，建議判處有期徒刑 3 年；觸犯《安全法》第 8 條第 2 項 “核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪”，建議判處有期徒刑 8 年，合并執行有期徒刑 14 年。
被告吳男涉嫌觸犯《營業秘密法》第 13 條之 2 “意圖域外使用而竊取營業秘密罪”，建議判處有期徒刑 4 年；觸犯《安全法》第 8 條第 2 項 “核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪”，建議判處有期徒刑 7 年，合并執行有期徒刑 9 年。
被告戈男涉嫌觸犯《安全法》第 8 條第 2 項 “核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪”，建議判處有期徒刑 7 年。
國際影響與產業連鎖反應
1.日本 Rapidus 的潛在受益：
TEL 作為 Rapidus 的股東（持股 12%）和核心設備供應商，其獲取的臺積電技術資料可能加速 Rapidus 的 2 納米研發進程。Rapidus 原計劃 2027 年量產 2 納米芯片，但試產良率僅 50%-60%，此次泄密或助其縮短技術差距。
2.臺積電技術優勢面臨挑戰：
若蝕刻參數、工藝條件等核心數據被逆向解析，三星、英特爾等競爭對手可能通過設備調整削弱臺積電的制程壁壘。臺積電已宣布升級內部監控系統，包括禁用手機、建立“數字水印” 追蹤機制等
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