中國(guó)芯片邁出一大步，蝕刻機(jī)已達(dá)先進(jìn)水平，光刻機(jī)迎頭快跑
2019-05-28 10:28:20 科技之窗
還記得在2004年當(dāng)時(shí)已經(jīng)60歲的尹志堯離開(kāi)硅谷從事了二十多年的半導(dǎo)體行業(yè)，帶隊(duì)回國(guó)創(chuàng)業(yè)。于是乎中微很快開(kāi)發(fā)出第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)的生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的設(shè)備，它便是等離子體刻蝕機(jī)。或許大家還不知道，其實(shí)在全球最先進(jìn)的可量產(chǎn)的7納米芯片工藝上，中微半導(dǎo)體是全球五大刻蝕機(jī)供應(yīng)商之一，并已進(jìn)軍5nm領(lǐng)域。
按照當(dāng)前芯片發(fā)展進(jìn)度，臺(tái)積電已經(jīng)開(kāi)始打造5nm生產(chǎn)線，而在這條生產(chǎn)線上臺(tái)積電將搭載5nm等離子體蝕刻機(jī)便是來(lái)自于深圳中微半導(dǎo)體。目前該技術(shù)已經(jīng)得到了臺(tái)積電的驗(yàn)證。
在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻，光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，如果要想制造高端的芯片，這兩個(gè)東西都必須頂尖。
而在光刻機(jī)方面，與世界最先進(jìn)的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng)，但ASML終究是背后最大霸主，最大贏家，因?yàn)樗麄冋l(shuí)都離不開(kāi)他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上，目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無(wú)先例，它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源，實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。
從光刻機(jī)還是蝕刻機(jī)，至少可以看得出來(lái)國(guó)產(chǎn)芯片已經(jīng)取得了非常大的成就。中微半導(dǎo)體7nm蝕刻機(jī)的量產(chǎn)，直接邁入世界一流行列，5nm蝕刻機(jī)也在實(shí)驗(yàn)階段。而光刻機(jī)方面已邁入22納米。
我們也相信如果光刻機(jī)與蝕刻機(jī)紛紛取得進(jìn)展，也將成為如果挑戰(zhàn)臺(tái)積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下，實(shí)現(xiàn)芯片研發(fā)國(guó)產(chǎn)化、加工制造本土化。那個(gè)時(shí)候，將會(huì)造福諸如華為、小米、OV等國(guó)產(chǎn)手機(jī)。
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