中國芯片邁出一大步，蝕刻機已達先進水平，光刻機迎頭快跑
2019-05-28 10:28:20 科技之窗
還記得在2004年當時已經60歲的尹志堯離開硅谷從事了二十多年的半導體行業，帶隊回國創業。于是乎中微很快開發出第一臺國產的生產半導體芯片的設備，它便是等離子體刻蝕機。或許大家還不知道，其實在全球最先進的可量產的7納米芯片工藝上，中微半導體是全球五大刻蝕機供應商之一，并已進軍5nm領域。
按照當前芯片發展進度，臺積電已經開始打造5nm生產線，而在這條生產線上臺積電將搭載5nm等離子體蝕刻機便是來自于深圳中微半導體。目前該技術已經得到了臺積電的驗證。
在芯片制造領域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領域的關鍵。在業界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造高端的芯片，這兩個東西都必須頂尖。
而在光刻機方面，與世界最先進的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后最大霸主，最大贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產光刻機還在路上，目前我國已經能夠使用365納米波長的光生產22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產光刻機可以使用低成本光源，實現了更高分辨力的光刻。
從光刻機還是蝕刻機，至少可以看得出來國產芯片已經取得了非常大的成就。中微半導體7nm蝕刻機的量產，直接邁入世界一流行列，5nm蝕刻機也在實驗階段。而光刻機方面已邁入22納米。
我們也相信如果光刻機與蝕刻機紛紛取得進展，也將成為如果挑戰臺積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下，實現芯片研發國產化、加工制造本土化。那個時候，將會造福諸如華為、小米、OV等國產手機。
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