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Mentor Graphics適用于 22FDX平臺的設計參考流程和工藝設計套件

2015-11-16 20:32:20 未知

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Mentor Graphics公司（納斯達克代碼：MENT）今天宣布，正與 GLOBALFOUNDRIES 展開合作，認證 Mentor^® RTL 到 GDS 平臺（包括RealTime Designer™ 物理 RTL 合成解決方案和 Olympus-SoC™ 布局布線系統）能夠完全適用于當前版本的 GLOBALFOUNDRIES^®22FDX™平臺設計參考流程。此外，Mentor 和 GLOBALFOUNDRIES 還一同合作開發適用于 22FDX 平臺的工藝設計套件 (PDK)。該 PDK 支持 Mentor Calibre^®平臺，涵蓋適用于 22FDX 平臺的設計規則檢查 (DRC)、版圖與電路圖比較 (LVS) 和金屬填充解決方案。這些解決方案可幫助雙方客戶利用 22FDX 工藝中的性能來解決功耗、性能和電流泄漏，從而優化他們的設計。

GLOBALFOUNDRIES 業務開發副總裁 Pankaj Mayor 表示：“我們與Mentor Graphics 密切合作，使其產品能夠幫助客戶落實 22FDX 平臺的優勢。對Mentor 工具用于實施流程和設計驗證的認證，將幫助設計人員實現功耗、性能和成本之間的最佳平衡。”

在先進工藝的設計流程中，RealTime Designer™ 可以滿足諸多需求，包括更高的容量、更快的運行時間、改進的結果質量 (QoR) 和集成的布局規劃功能。尤其對于 22FDX 平臺，它支持基于統一功率格式 (UPF) 的多電壓設計、多 Vt 優化、電流泄漏和動態功率分析及優化、獨特的 RTL 級別布局規劃技術，從而改進 QoR 和運行時間。Olympus-SoC™ 工具能夠全面解決我們使用先進工藝時在性能、容量、上市時間、功率和可變性方面遇到的難題。對22FDX的支持包括低功耗功能，例如多電壓設計流程、并行多態多模時序和功率優化、正向和反向偏置處理、電網上 DCAP 單元的插入以減少噪音。

Mentor Graphics 的 IC 實施部門總經理 Pravin Madhani 表示：“我們的客戶要設計一些適用于移動、無線、網絡和圖形產品的最復雜芯片。通過與GLOBALFOUNDRIES 進行協作，我們能夠為雙方客戶提供適用于 22FDX 平臺的先進數字實施流程。

Calibre nmDRC™、Calibre nmLVS™ 和 Calibre YieldEnhancer 工具提供了可用于22FDX PDK 的驗證功能。核心的DRC和LVS驗證是由Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具提供。Calibre YieldEnhancer中的SmartFill功能可通過智能自動方式填充設計，提供填充形狀的最佳分布和布局，從而幫助設計人員達到平坦度和密度要求，最大程度地減少填充后的時序更改。

新版的 22FDX PDK 將為設計人員提供 GLOBALFOUNDRIES 所特有的 DFM 功能。GLOBALFOUNDRIES 提供了業界領先的 DRC+、制造分析和記分 (MAS) 和 Yield Enhancement Services™ (YES) 設計套件。這些基于 Calibre 平臺的產品，可幫助設計團隊分析其設計風格在22FDX工藝中對可制造性的影響。DRC+ 方法使用 Calibre Pattern Matching 工具的快速圖形匹配功能，從光刻角度識別出有問題的圖形，然后使用 Calibre nmDRC 對存在這些圖形的區域執行更嚴格的設計約束。MAS 和 YES 方法有助于降低制造可變性：MAS 采用 Calibre YieldAnalyzer 中的 DFM 記分功能，可在所有層上對 IP 模塊和 SoC 進行記分；在 YES 服務中，GLOBALFOUNDRIES 工程師使用 Calibre YieldEnhancer 中的 Layout 修改功能，可修改邊緣和導孔（Via）擺放位置，進而提升 Layout 的穩健性。

Mentor Graphics 的 Design to Silicon 事業部副總裁 Joseph Sawicki 說道：“通過將最先進的 Calibre 分析和驗證功能整合到其22FDX 平臺中，GLOBALFOUNDRIES 向設計人員提供了其所需的工具，幫助他們提高產品的穩健性。這不僅可確保為工藝流程提供高質量設計，還可確保設計能更加快速地量產。”

Mentor Graphics 和 GLOBALFOUNDRIES 正攜手合作，開發可用于Sign-off的先進寄生電路參數抽取和可靠性驗證的 Calibre xACT™ 和 Calibre PERC™ 解決方案。