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臺積電/ADI攜手開發0.18微米類比制程技術平臺

2012-06-24 21:10:15 本站原創
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臺積電(TSM-US)(2330-TW)與美商亞德諾(Analog Devices Inc.)(ADI-US)今(20)日共同宣布雙方合作開發完成可支援精密類比積體電路的0.18微米類比制程技術平臺。此平臺適合許多電腦、工業電子及消費性電子產品的應用。

此嶄新的制程技術平臺能夠大幅改善類比效能,支援諸多元件的應用,包括交流電轉直流電(A/D)與直流電轉交流電(D/A)轉換器、電源管理元件、以及音訊編/解碼器,這些元件皆被廣泛應用于消費性電子、通訊產品、電腦、工業電子、以及汽車產品。

0.18微米5伏電壓制程所達到的性能提升效果包括雜音改善幅度提升一個數量級(An Order of Magnitude)、靜態漏電流(Standby Leakage Current)減少幅度達70%、線性度(Linearity)改善50%、以及電容電阻匹配(Capacitor and Resistor Matching)改善幅度達50%。

ADI藉此新開發平臺于最近發表的產品包括隔離式控制器區域網路(Control-Area Network,CAN)收發器、高速可尋址遠端換能器(Highway Addressable Remote Transducer, HART)數據機IC、心電圖(ECG)類比前端(AFE)晶片、數位電位器(Digital Potentiometer)、以及音訊編碼器。

臺積電0.18微米BCD(Bipolar–CMOS -DMOS,雙極–互補金屬氧化半導體–雙重擴散金屬氧化半導體)制程平臺能夠支援廣大的操作電壓范圍,并且提供具有成本效益的操作優勢,擁有極小的覆蓋面積(Footprint)與極高的能源效率,此平臺適合許多電腦、工業電子及消費性電子產品的應用。

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