十大制程將徹底改變TFTLCD面板產業
2012-01-04 20:51:11 本站原創DisplaySearch正式發行全球首份完整解析TFT LCD最新制程技術的DisplaySearch TFT LCD制程技術藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）。該份報告結合DisplaySearch日本、韓國、臺灣的所有TFT LCD分析師針對2012年將會影響面板產業的十大重要制程技術進行全面性的介紹與分析，是一份業界最為完整的技術報告。
表一、2012 年將改變面板產業的十大制程技術與其長遠發展
目前面板產業面臨獲利與市場成長瓶頸，面板廠、設備廠商、材料廠商不斷地在制程與產品技術上進行改良，并朝兩大方向進行--針對有成長潛力的應用提升面板的附加價值，針對成熟的應用不斷降低成本。十大重要制程技術的發展，包含LTPS（低溫多晶硅）、IGZO（金屬氧化物半導體）、Optical Alignment（光配向）、Advanced Resolution Exposure（高分辨率曝光）、 Advanced LC Mode（新液晶配方）、SHA（高開口率）、Low Resistance Metalization（低阻抗性金屬材料）、COA（Color Filter On Array）、Thin Mother Glass（薄玻璃基板）、BM Width Reduction（黑色矩陣寬幅縮減）等等，將會為2012年及以后的面板產業帶來巨大的變化。DisplaySearch在DisplaySearch TFT LCD制程技術藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）中針對這十大趨勢中各個技術的發展現況與展望、各家面板廠的進度與預測、以及對未來發展的關鍵提供全面的詳細的分析。
圖一、2008-2015 LTPS和IGZO高分辨率背板的產量 （單位：千平方米）
另外, DisplaySearch在該報告中指出, 智能手機和平板電腦爆發式成長，使得LTPS（low temperature polysilicon低溫多晶硅技術）和IGZO（indium gallium zinc oxide組成的非結晶氧化物半導體技術）等生產高分辨率顯示器技術更為重要。這些TFT技術采用高移動速率半導體材料以減小TFT維度，提高光穿透率。分辨率超過每英寸230像素（230 PPI）的液晶面板，如蘋果的Retina Display，高光穿透率可以使能耗降到最低，使可攜式設備可長時間使用而不用充電。
根據NPD DisplaySearch TFT LCD制程技術藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report）指出，2012年高遷移率TFT-LCD背板產量預計將提高150%，從2011年的560萬平方米迅速發展到1410萬平方米。如此高成長的驅動力主要在于許多五代線和更大的低溫多晶硅（LTPS）產線于2012年開始投入生產，且夏普、樂金顯示和三星現有的產線也投入生產金屬氧化物（IGZO）。
“智能手機、平板電腦和成本降低將成為2012年平板顯示產業快速發展的關鍵驅動力。”NPD DisplaySearch制造領域研究副總Charles Annis表示，“由于平板顯示獲利壓力大，面板廠商轉而投入快速發展的可攜式應用，并積極尋求各種可降低成本的策略。因此，高遷移率背板、光配向（optical alignment）、高分辨率曝光技術（high resolution lithography）和先進的液晶模塊組合預計將在明年成為最重要的生產技術。”
所有的技術都在于如何提高面板的光穿透率。一般而言只有4-9%的背光能夠穿過到前端顯示屏，為達亮度指標會因此要求高強度的光源；另外，背光模塊是大尺寸液晶模塊中成本占比較高的單一組件。因此，通過提高光穿透率，面板商就可以降低能耗和成本。
“廠商們期待真正好的新技術是能夠提高光穿透率同時不降低良率。面板商和其供貨商都在努力開發生產技術，力爭取得競爭優勢以提高2012年利潤。”Annis補充到，“目前看來，像金屬氧化物（IGZO）這樣的技術，一方面可提高面板性能一方面可降低成本，將使面板商獲取高度競爭優勢，將有機會成為未來平板顯示產業制造新標準。”
NPD DisplaySearch新出版TFT LCD制程技術藍圖趨勢報告（TFT LCD Process Roadmap Report），報告針對FPD新進生產技術做了獨到且深入的分析。報告按制造工藝流程進行技術探討，分析工序流程和制造商采用新技術現狀，對57種生產技術未來的應用進行預測并分析相應的優點、機會與挑戰等。同時報告對目前到2016年液晶顯示器的性能指針也做了分析預測。
