科技日報北京5月13日電
（記者林莉君）對于普通人來說，光刻機(jī)或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆
芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。記者
13日從清華大學(xué)獲悉，國家科技重大專項“光刻機(jī)雙工件臺系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”通過驗收，使我國成為少數(shù)能研制光刻機(jī)雙工件臺這一超精密機(jī)械與測控技術(shù)領(lǐng)域尖端
系統(tǒng)的國家之一。
“簡單地說，光刻機(jī)就是把工程師的設(shè)計‘印入’基底材料，其核心技術(shù)長期被荷蘭、日本、德國等把持。”“千人計劃”專家、從事密碼
芯片研發(fā)的九州華興集成
電路設(shè)計公司首席科學(xué)家丁丹在接受科技日報記者采訪時說，“我們研發(fā)的
芯片投入生產(chǎn)時，130納米的
芯片開模就是120萬元人民幣，而28納米的
芯片開模
費(fèi)用高達(dá)上千萬元人民幣。”
據(jù)介紹，為了將設(shè)計圖形制作到硅片上，并在2—3平方厘米的方寸之地集成數(shù)十億晶體管，光刻機(jī)需達(dá)到幾十納米甚至更高的圖像分辨率。而光刻機(jī)兩大核心部件
之一的工件臺，在高速運(yùn)動下需達(dá)到2納米（相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的三萬分之一）的運(yùn)動精度。因此光刻機(jī)雙工件臺又被稱為“超精密技術(shù)皇冠上的明珠”。
專家組認(rèn)為，歷經(jīng)5年攻關(guān)，研究團(tuán)隊研制出2套光刻機(jī)雙工件臺掩模臺系統(tǒng)α樣機(jī)，關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國際同類光刻機(jī)雙工件臺水平，并獲得專利授權(quán)122項，為后續(xù)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化打下了堅實(shí)基礎(chǔ)。
