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盛美半導(dǎo)體:挑戰(zhàn)技術(shù)極限的半導(dǎo)體制造“清道夫”

2016-03-16 13:52:10 未知
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隨著半導(dǎo)體工藝的不斷深入,硅片清洗的重要程度日益凸顯。近年來,這個(gè)領(lǐng)域不僅開始有了一些嶄露頭角的中國本土企業(yè)身影,甚至還殺出了一些“黑馬”。 近日,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司 潛心研究八余載,終于在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域獲得了一項(xiàng)重點(diǎn)技術(shù)突破 -- 解決了圖形結(jié)構(gòu)晶圓無損傷清洗的難題。盛美半導(dǎo)體董事長、首席執(zhí)行官王暉對(duì)自主研發(fā)的革命性新技術(shù)充滿信心。

事實(shí)上,從70納米以下起,芯片制造的良率就開始有所下降,主要原因之一就在于硅片上的顆粒物、污染難以清洗。隨著線越做越細(xì),到了20納米以下,基本上整個(gè)工藝中,每兩步就要做一次清洗,而到1X納米后,如果想得到較高良率幾乎每步工序都離不開清洗。

FinFET結(jié)構(gòu) 
FinFET結(jié)構(gòu)

作為集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中最關(guān)鍵的一個(gè)環(huán)節(jié),先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備長期以來被美國、日本和歐洲的幾個(gè)工業(yè)強(qiáng)國所主導(dǎo),在中國可以說是一個(gè)從零開始的產(chǎn)業(yè)。“以前中國12寸晶圓廠里的設(shè)備沒有一臺(tái)是中國制造的,直到近幾年這種狀況才有所改變。” 王暉表示,“芯片廠商和半導(dǎo)體設(shè)備商是相輔相成的關(guān)系,如果一個(gè)國家沒有半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計(jì)、制造能力,它在高科技領(lǐng)域始終要受制于人。”現(xiàn)在,盛美半導(dǎo)體以提升良率為突破口,加上可靠的設(shè)備運(yùn)行數(shù)據(jù)爭(zhēng)取到海力士 、 中芯國際 、 華力微電子、 長電先進(jìn) 、 華進(jìn)半導(dǎo)體 、 晶盟等客戶的重復(fù)訂單,并通過盛美美國與Sematech建立了長期的合作關(guān)系。

隨著半導(dǎo)體工藝由2D走向3D,F(xiàn)inFET對(duì)硅片清洗提出了新挑戰(zhàn),圖形結(jié)構(gòu)晶圓清洗相較于平坦表面的清洗,技術(shù)和要求都要復(fù)雜得多。“這可以說是半導(dǎo)體清洗技術(shù)難以逾越的一個(gè)技術(shù)門檻,現(xiàn)在到了必須要面對(duì)的時(shí)候了。”王暉介紹,隨著線寬減小,深寬比的增加,清洗工藝難度也迅速增大。其實(shí),過去十年來,很多大公司也都曾在這個(gè)問題上做過嘗試,但多數(shù)都半途而廢。盛美則憑借著一股追求技術(shù)極致的執(zhí)著激情,經(jīng)過多年的不懈努力,最終找到了解決方案 。 目前 盛美最新的無損傷物理清洗技術(shù)已經(jīng)在客戶1X納米的圖形芯片上得到了初步驗(yàn)證。王暉介紹,盛美半導(dǎo)體下一代清洗技術(shù)不僅可以用于FinFET圖形硅片的清洗,也可以用于DRAM以及Flash等(高深寬比15:1甚至30:1)關(guān)鍵工藝的清洗。

半導(dǎo)體發(fā)展對(duì)技術(shù)的要求不斷更新,所以新問題、新技術(shù)的應(yīng)變能力,對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)提出了很高的要求。而對(duì)技術(shù)的極致追求,就是盛美取得成功的最大秘訣。王暉 表示 ,盛美做半導(dǎo)體設(shè)備,主要就是抓住三大要素:技術(shù)差異化、進(jìn)入市場(chǎng)的時(shí)間節(jié)點(diǎn)及全球?qū)@Wo(hù)。

“面對(duì)同一個(gè)應(yīng)用,同一個(gè)技術(shù)挑戰(zhàn),你要比大公司做得好,就要尋求差異化的解決方法,否則就很難超過大公司。”在王暉看來,從技術(shù)創(chuàng)新的角度,小公司未必會(huì)輸給大公司,反而因?yàn)槠潇`活性及高效率,而更容易做出突破性的技術(shù)。面對(duì)當(dāng)今所遭遇的圖形結(jié)構(gòu)晶圓清洗技術(shù)瓶頸,在其他公司一時(shí)無法找到解決方案的時(shí)候,盛美厚積薄發(fā)終于幸運(yùn) 地 拿到了這把金鑰匙,這個(gè)時(shí)間節(jié)點(diǎn)至關(guān)重要。另外,盛美半導(dǎo)體如今已擁有完善的自主產(chǎn)權(quán)和相關(guān)專利,目前申請(qǐng)超過419項(xiàng)國際及國內(nèi)專利,并有超過116項(xiàng)已獲得授權(quán),這也是盛美半導(dǎo)體發(fā)展自己的技術(shù)路線圖并擁有持續(xù)競(jìng)爭(zhēng)力的保證。

從全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)來看,中國市場(chǎng)的地位正在崛起,未來一半以上集成電路市場(chǎng)在中國。而國家近年來對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的大力推動(dòng),也讓本土半導(dǎo)體企業(yè)看到了機(jī)會(huì)所在。“我認(rèn)為中國設(shè)備公司走上世界舞臺(tái)才剛剛開始,盛美有幸成為其中一員,以后一定還將有更多中國設(shè)備公司開發(fā)出差異化的,屬于自己核心技術(shù)的產(chǎn)品。”這是個(gè)技術(shù)大變革的時(shí)代,也是中國本土半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)爭(zhēng)得發(fā)展空間的的歷史機(jī)遇,王暉對(duì)此充滿信心 ,“ 我們相信盛美在不久的將來,百尺竿頭,更進(jìn)一步,吹響中國研發(fā)、制造半導(dǎo)體設(shè)備沖出亞洲,進(jìn)軍世界的號(hào)角。 ”文章來源:《半導(dǎo)體制造》雜志

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