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資訊列表

• 中芯投入7納米研發，半導體邁入五強爭霸

  　臺積電、三星電子(Samsung Electronics)將在2018年量產7納米制程，中芯國際執行長邱慈云透露，2017年亦將投入7納米制程研發，估計全球半導

  半導體/EDA

  2017-03-15
• 臺積電攜手 Nvidia，首款 12 納米制程產品將在 20

  根據國外科技網站 digitaltrends 的報導，顯示芯片大廠英偉達（NVIDIA）針對自動駕駛及 AI 運算市場所推出的 Xavier SoC 處理器，其當

  半導體/EDA

  2017-03-15
• 聯電攜手Synopsys，加速 14 納米制程客制化設計

  日前，剛宣布 14 納米制程進入客戶芯片量產階段的晶圓代工廠聯電，14 日再與新思科技 (Synopsys) 共同宣布，雙方將拓展合作關系，將 Syn

  半導體/EDA

  2017-03-14
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  聯發科下代旗艦芯今秋即可發布：7納米+12核心

  　　聯發科是行業內最早公布 10 納米芯片的廠商，去年 9 月份就推出了 Helio X20 的繼任者 Helio X30 十核心處理器。當時聯發科吹噓

  半導體/EDA

  2017-03-10
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  光源技術突破　EUV量產指日可待

  在日前于美國舉行的西部光電展(Photonics West)上，業界多家廠商探討了極紫外光(EUV)微影所需的250W光源、具有發展前景的紅外線與近紅外線攝

  半導體/EDA

  2017-03-08
• TCL董事李東生兩會提議：對半導體產業加大支持力度

  3月4日，兩會開幕之際，第十二屆全國人大代表、TCL集團董事長、CEO李東生就如何提升我國電子信息產業競爭力的課題，提出了《關于對半導體顯示/

  半導體/EDA

  2017-03-05
• 7nm工藝進程之戰：Intel落后三星、臺積電

  半導體研究機構ICinsights于2017年3月3日公告中指出，2017年有11家半導體廠資本支出預算超過10億美元，占全球半導體產業總合的78%。而2013年，

  半導體/EDA

  2017-03-03
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  EUV微影技術仍待克服重重障礙

  極紫外光(EUV)微影技術持續取得重大進展。在日前于美國加州圣荷西舉行的國際光電工程學會(SPIE)年度會議上，英特爾(Intel)與三星(Samsung)的專

  半導體/EDA

  2017-03-01
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