趕超臺(tái)積電，英特爾的救星在歐洲，但不是瘋狂建廠
2021-09-09 12:50:08 EETOP《華爾街日?qǐng)?bào)》指出，臺(tái)積電晶圓代工實(shí)力領(lǐng)先英特爾，還幫助英偉達(dá)、AMD等對(duì)手在關(guān)鍵市場(chǎng)挑戰(zhàn)英特爾，引導(dǎo)蘋(píng)果、亞馬遜和Google 等科技巨頭設(shè)計(jì)出自家處理器，搶走英特爾芯片市場(chǎng)的制霸地位。
報(bào)道認(rèn)為，如果想拉近跟臺(tái)積電的差距，不光是建造更多工廠，很大程度取決于能否能從荷蘭商ASML 獲得下一代芯片制造設(shè)備。ASML是全球唯一量產(chǎn)極紫外光光刻機(jī)（EUV）的廠商，臺(tái)積電、三星、英特爾先進(jìn)制程都依賴EUV 光刻機(jī)生產(chǎn)。
英特爾7 月正式揭露制程與封裝技術(shù)最新藍(lán)圖時(shí)，就強(qiáng)調(diào)迅速轉(zhuǎn)往下世代EUV 工具計(jì)劃，稱為高數(shù)值孔徑（High NA）EUV，英特爾有望獲得業(yè)界首款High NA EUV 量產(chǎn)設(shè)備。英特爾首席執(zhí)行官帕特·基爾辛格（Pat Gelsinger）也在7 月提到兩家公司的長(zhǎng)期合作關(guān)系，他表示，一旦最新EUV 設(shè)備上市，英特爾就會(huì)立即采用。
研究機(jī)構(gòu)半導(dǎo)體顧問(wèn)公司（Semiconductor Advisors）分析師Robert Maire 認(rèn)為，如果英特爾優(yōu)先獲得這些設(shè)備，很可能在摩爾定律競(jìng)賽領(lǐng)先臺(tái)積電。
現(xiàn)階段每臺(tái)EUV 光刻機(jī)單價(jià)將近1.5 億美元，但ASML 的EUV 光刻機(jī)目前出貨都是光源波長(zhǎng)13.5 納米左右的第一代產(chǎn)品，物鏡NA 數(shù)孔徑是0.33，據(jù)ASML 表示，第二代EUV光刻機(jī)已進(jìn)入開(kāi)發(fā)階段。
ASML 第二代EUV 光刻機(jī)型號(hào)是NXE:5000 系列，物鏡NA 值升到0.55，提高曝光精準(zhǔn)度。第二代EUV 光刻機(jī)研發(fā)階段曾遭遇瓶頸，所幸神隊(duì)友東京電子（東京威力科創(chuàng)Tokyo Electron）救援，雙方聯(lián)合發(fā)展下一代EUV 光刻機(jī)生產(chǎn)，目前預(yù)計(jì)仍維持2023 年問(wèn)世。
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