中芯國際量產7nm工藝？官方道出真相
2020-03-26 10:09:01 未知
業(yè)界普遍認為，中芯國際N+1工藝相當于臺積電第一代7nm工藝，N+2則相當于臺積電7nm+，重點在提升性能，年底即可量產。
今天，中芯國際相關人士詳細解釋了N+1工藝，也澄清了一些誤會。
首先需要強調的是，N+1是中芯國際的內部代號，并不等于7nm。
據介紹，中芯國際N+1工藝在去年第四季度完成流片，目前正處于客戶產品驗證階段，預計第四季度有限量產。
與市場上的7nm相比，中芯國際N+1在功耗、穩(wěn)定性方面非常相似，唯一的區(qū)別就是性能，N+1的性能比14nm提高了約20％，但市場基準提升幅度是35％，所以有差距，但這也是唯一的差距。
如果是從功耗、穩(wěn)定性方面而言，可以將中芯國際N+1稱為7nm，而在性能方面確實要比7nm差。
中芯國際對N+1的目標是低成本應用，可以將成本相對市場上的7nm減少大約10％，因此是一個非常特殊的工藝節(jié)點。
從中芯國際的表態(tài)看，N+1更類似于臺積電、三星的10nm，或者有點像三星的8nm，因為20％的性能提升幅度遠低于臺積電預計的30％、實際的35％。
至于N+2工藝，與市場7nm更為接近，尤其是穩(wěn)定性，但是性能仍然略遜一籌。
另外隨著臺積電、三星陸續(xù)導入EUV極紫外光刻，中芯國際也在加速推進，但是梁孟松曾明確表示，
中芯國際無需EUV就能達成7nm，當然后續(xù)的5nm、3nm是必須要有EUV的。
其實，臺積電第一代7nm也沒有用EUV而是繼續(xù)傳統(tǒng)DUV，7nm+才有限導入EUV，幾十層光罩中只有幾層使用。
關鍵詞： 中芯國際量產7nm
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